[发明专利]具有透射区域的显示设备及制造显示设备的方法在审

专利信息
申请号: 202110347257.4 申请日: 2021-03-31
公开(公告)号: CN113497206A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 全珠姬;朴相河;郑茶姬;黄圭焕 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 杨永良;韩芳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 透射 区域 显示 设备 制造 方法
【说明书】:

提供了一种显示设备和制造显示设备的方法。所述显示设备包括:基底,包括第一显示区域和第二显示区域,第二显示区域包括透射区域;多个第一对电极和多个第二对电极,均对应于第一显示区域;以及多个第三对电极和多个第四对电极,均对应于第二显示区域,并且围绕透射区域的至少一部分。所述多个第一对电极中的每个第一对电极的形状与所述多个第三对电极中的每个第三对电极的形状相同。

本申请要求于2020年4月2日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0040480号韩国专利申请的权益和优先权,该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

技术领域

本公开涉及一种显示设备,更具体地,涉及一种具有透射区域的显示设备及制造该显示设备的方法。

背景技术

如今,显示设备比以往更广泛地使用。另外,显示设备已经变得更薄和更轻,允许它们在各种装置中使用。

由于显示设备被不同地利用,因此在设计显示设备的形状时可以存在各种方法,其可以允许有效地生产不同形状的显示器。此外,各种不同的功能装置被集成到显示设备中,从而使现代显示设备比以往更有能力。

发明内容

显示设备包括:基底,包括第一显示区域和第二显示区域,第二显示区域包括透射区域;多个第一对电极和多个第二对电极,均对应于第一显示区域;以及多个第三对电极和多个第四对电极,均对应于第二显示区域,并且围绕透射区域的至少一部分。所述多个第一对电极的形状与所述多个第三对电极的形状相同。

所述多个第二对电极的形状可以与所述多个第四对电极的形状相同。

所述多个第三对电极中的每个第三对电极的面积可以与所述多个第四对电极中的每个第四对电极的面积不同。

所述多个第一对电极至所述多个第四对电极中的每个可以对应于两个像素。

所述多个第一对电极中的每个第一对电极可以具有在第一方向上具有长边的第一四边形形状,并且所述多个第一对电极之中的在第一方向上彼此相邻的第一对电极可以在第一四边形的边缘处彼此叠置。

所述多个第一对电极可以在与第一方向相交的第二方向上彼此间隔开,并且所述多个第二对电极中的一些第二对电极可以布置在所述多个第一对电极之间的空间内。

所述多个第三对电极中的每个第三对电极可以具有在第一方向上具有长边的第三四边形形状,并且透射区域可以布置在所述多个第三对电极之中的在第一方向上彼此相邻的第三对电极之间。

所述多个第一对电极可以在第一显示区域与第二显示区域之间的边界处与所述多个第三对电极至少部分地叠置。

所述多个第二对电极可以在第一显示区域与第二显示区域之间的边界处与所述多个第四对电极至少部分地叠置。

显示设备还可以包括其中所述多个第一对电极之中的两个第一对电极可以与所述多个第二对电极之中的一个第二对电极叠置的区域。

一种制造显示设备的方法,所述显示设备包括第一显示区域和第二显示区域,第二显示区域包括透射区域,所述方法包括:对准第一掩模以对应于基底;通过使用第一掩模首先在基底上沉积对电极的部分;通过沿+x方向和与+x方向相交的+y方向移动第一掩模,第二次沉积对电极的部分;对准第二掩模以对应于基底;通过使用第二掩模在基底上第三次沉积对电极的部分;通过沿-x方向和+y方向移动第二掩模,第四次沉积对电极的剩余部分。

第一掩模可以包括第一掩模开口和第三掩模开口。第一掩模开口可以具有与第三掩模开口相同的形状和相同的尺寸。第一掩模开口的分离距离可以与第三掩模开口的分离距离不同。

第二掩模可以包括第二掩模开口和第四掩模开口。第二掩模开口可以具有与第四掩模开口相同的形状和相同的尺寸。第二掩模开口的分离距离可以与第四掩模开口的分离距离不同。第二掩模开口的尺寸可以与第一掩模开口的尺寸不同。

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