[发明专利]一种彩膜结构、显示基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 202110340579.6 申请日: 2021-03-30
公开(公告)号: CN113078202B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: 侯鹏;何源;任怀森;王云浩;韩永占 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 膜结构 显示 显示装置
【说明书】:

一种彩膜结构、显示基板及显示装置,所述彩膜结构应用于显示基板,包括设置有多个开口区域的黑矩阵和覆盖所述多个开口区域的多个彩膜单元,所述彩膜单元与所述子像素一一对应,至少存在第一彩膜单元和第二彩膜单元,所述第一彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第二彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积,所述黑矩阵靠近所述第一彩膜单元的端部至所述基底的距离大于所述黑矩阵靠近所述第二彩膜单元的端部至所述基底的距离。本公开实施例提供的方案,所述黑矩阵的端部位置与子像素的开口区域面积相关,可以平衡不同大小的子像素的出光角度,改善色偏。

技术领域

本申请实施例涉及但不限于显示技术,尤指一种彩膜结构、显示基板及显示装置。

背景技术

彩膜(Color Filter,CF)广泛用白色背光源下的色彩呈现(比如液晶显示(LCD),白光有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)+CF显示等),即将白色光源转化为红绿蓝(RGB)像素色彩。在RGB自发光领域(比如RGB自发光OLED,量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes,QLED)等),彩膜的主要作用是替代偏光片,降低反射光,增强显示,方便于与其它功能层整合(比如屏内天线,屏下摄像头,触控层等)。彩膜层的主要结构层包括:黑矩阵(Black Matrix,BM),红色滤光层(Red Color Filter),绿色滤光层(Green Color Filter)和蓝色滤光层(Blue Color Filter)。RGB彩膜可以包括有机材料。与偏光片相比,彩膜在OLED领域的降反射率优势还在于显示功耗降低方面。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本公开实施例提供了一种彩膜结构、显示基板及显示装置。

一方面,本公开实施例提供了一种彩膜结构,应用于显示基板,所述显示基板包括基底,且所述基底远离所述显示基板的出光侧,所述显示基板包括多个子像素,所述彩膜结构包括:设置有多个开口区域的黑矩阵和覆盖所述多个开口区域的多个彩膜单元,所述彩膜单元与所述子像素一一对应,至少存在第一彩膜单元和第二彩膜单元,所述第一彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第二彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积,所述黑矩阵靠近所述第一彩膜单元的端部至所述基底的距离大于所述黑矩阵靠近所述第二彩膜单元的端部至所述基底的距离。

在一示例性实施例中,所述黑矩阵靠近所述彩膜单元的端部至所述基底的距离与所述彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积正相关。

在一示例性实施例中,在垂直于所述基底的平面上,所述黑矩阵的截面包括位于相邻的彩膜单元之间依次连接的第一段、第二段和第三段,所述第一段和第三段平行于所述基底,所述第二段为斜线段。

在一示例性实施例中,在垂直于所述基底的平面上,所述黑矩阵的截面包括位于相邻的彩膜单元之间的凸起段,所述凸起段的凸起方向远离所述基底。

在一示例性实施例中,所述彩膜单元包括中间部和围绕所述中间部的外周部,所述外周部沿垂直于所述基底的方向的第一宽度大于所述中间部沿垂直于所述基底的方向的第二宽度。

在一示例性实施例中,所述第一宽度与所述第二宽度的比值为1.5至3。

在一示例性实施例中,在垂直于所述基底的平面上,所述彩膜单元的截面中,将所述外周部靠近所述基底一侧,且分别位于所述中间部的两侧的两条边称为第一边和第二边,所述第一边的长度小于等于所述彩膜单元所覆盖的开口区域的截面的长度的1/5,所述第二边的长度小于等于所述彩膜单元所覆盖的开口区域的截面的长度的1/5。

在一示例性实施例中,所述彩膜单元远离所述基底一侧的表面平行于所述基底,所述彩膜单元靠近所述基底一侧存在凹陷部,所述凹陷部沿垂直于所述基底的方向的宽度小于所述彩膜单元沿垂直于所述基底的方向的宽度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110340579.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top