[发明专利]用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法

权利要求书

1.用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，主要包括装置主体（1）、分段光照装置（2）、叶片处理装置（3）、光系统II处理装置（4）和内周天线处理装置（5），

所述装置主体（1）为固定在水平台面上的圆柱型筒体，装置主体（1）从上到下均分为上、中、下三部分，

所述分段光照装置（2）包括竖直将装置主体（1）平均分为三部分的隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23），所述隔板槽一（21）与隔板槽二（22）的夹角处、隔板槽二（22）与隔板槽三（23）的夹角处、隔板槽三（23）与隔板槽一（21）的夹角处分别设有可调节光源（24），

所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）连接处设有圆柱型光照控制槽（25），所述光照控制槽（25）内部设有与三个所述可调节光源（24）分别连接用于控制可调节光源（24）亮度的亮度调节器（251），所述亮度调节器（251）与可调节光源（24）连接处设有用于转换亮度调节器（251）调节区域的转换控制器（252），

所述叶片处理装置（3）设置在所述装置主体（1）的上部，叶片处理装置（3）包括环绕设置在装置主体（1）上部外侧的三个弧形槽体一（31）、分别设置在所述弧形槽体一（31）内部的叶片存储装置（32）和分别设置在所述弧形槽体一（31）上部的密封遮盖（33），

所述光系统II处理装置（4）设置在所述装置主体（1）的中部，光系统II处理装置（4）包括分别通过转轴活动安装在所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）侧部的三个弧形槽体二（41）和分别设置在三个所述弧形槽体二（41）内部的试管架一（42），

所述内周天线处理装置（5）设置在所述装置主体（1）的下部，内周天线处理装置（5）包括分别通过转轴活动安装在所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）侧部的三个弧形槽体三（51）和分别设置在三个所述弧形槽体三（51）内部的试管架二（52）。

2.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）侧面分别设有用于防止光线折射和热量聚集的吸光吸热板（6）。

3.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）内部分别设有用于装置主体（1）内热量散发的散热器（7）。

4.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，三个所述弧形槽体一（31）与光照控制槽（25）上端面之间分别连接设有用于遮挡外部光源进入装置主体（1）内的遮光感应板（8）。

5.根据权利要求4所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述遮光感应板（8）上分别设有光照强度显色卡（81），用于感应所述可调节光源（24）的光照强度并通过不同程度的颜色进行显示。

6.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述光照控制槽（25）上端设有与光亮调节器（251）连接的亮度调节旋钮（253）和与所述转换控制器（252）连接的区域转换旋钮（254）。

7.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述试管架一（42）包括多个放置试管的试管槽一（421），所述试管槽一（421）底部均设有用于转动试管的旋转托座一（422），所述旋转托座一（422）分别通过设置在试管架一（42）底部的多个旋转电机一（423）驱动；

所述试管架二（52）包括多个放置试管的试管槽二（521），所述试管槽二（521）底部均设有用于转动试管的旋转托座二（522），所述旋转托座二（522）分别通过设置在试管架二（52）底部的多个旋转电机二（523）驱动。