[发明专利]一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备在审

专利信息
申请号: 202110339676.3 申请日: 2021-03-30
公开(公告)号: CN113080854A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 张世华 申请(专利权)人: 苏州优薇孚智能科技有限公司
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 周瑜
地址: 215000 江苏省苏州市高*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 提供 防晒 化妆品 使用 反馈 紫外线 敏感 成像 设备
【权利要求书】:

1.一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感成像设备,包括:成像装置以及与所述成像装置连接的定位装置,其特征在于:

所述定位装置包括横向滑轨以及纵向滑轨,所述横向滑轨与所述纵向滑轨垂直且密集交错排布,所述定位装置背部设置有图像处理器,所述图像处理器与所述成像装置电连接,所述图像处理器能够识别所述成像装置传来的图像上面部缺失区块,并调节定位装置使其朝向面部缺失区块;

所述成像装置包括紫外灯组以及与所述紫外灯组电连接的控制主板,所述紫外灯组朝向人脸面部,所述成像装置还包括拍摄组件,用于将受到紫外光照射的人脸面部图像记录,并传输至所述图像处理器。

2.根据权利要求1所述的一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备,其特征在于:所述紫外灯组包括若干紫外射灯,若干所述紫外射灯照射路线平行。

3.根据权利要求2所述的一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备,其特征在于:任一所述紫外射灯能够提供0-15指数范围的紫外线照射。

4.根据权利要求1所述的一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备,其特征在于:所述控制主板采用PLC自控系统。

5.根据权利要求4所述的一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备,其特征在于:所述控制主板与所述定位装置电连接。

6.根据权利要求4所述的一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备,其特征在于:所述PLC自控系统控制所述紫外灯组的单位照射时间范围在0.2s-5s。

7.根据权利要求1所述的一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备,其特征在于:所述照射模块外壳上设有定位板。

8.根据权利要求7所述的一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备,其特征在于:所述定位板与人脸眼睛部位对应,所述定位板能够进行位置调节。

9.根据权利要求1所述的一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备,其特征在于:所述拍摄组件采用高分辨耐辐射摄像系统。

10.根据权利要求1所述的一种提供防晒化妆品使用反馈的紫外线高敏感的成像设备,其特征在于:所述面部缺失区块通过将面部三维图像与拍摄组件提供的人脸面部图像进行对比得到。

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