[发明专利]一种杨树外植体脱毒试剂、脱毒方法及应用有效

专利信息
申请号: 202110332124.X 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN112931213B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 陈肃;于越;刘智杰 申请(专利权)人: 东北林业大学
主分类号: A01H4/00 分类号: A01H4/00
代理公司: 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 代理人: 贾耀淇
地址: 150040 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 杨树 外植体 脱毒 试剂 方法 应用
【说明书】:

发明公开了一种杨树外植体脱毒试剂、脱毒方法及应用,属于林木遗传育种技术领域。所述脱毒试剂,包括:75%乙醇和100‑200mg/L头孢霉素溶液,采用两种试剂对所述杨树外植体进行交替处理。还具体公开了利用所述脱毒试剂进行杨树外植体脱毒的具体方法,通过该方法仅利用浓度为75%的乙醇和头孢霉素即可完成脱毒处理,简单易行,可以有效解决杨树扦插苗表面寄生细菌难以清除的难题,更快速的完成大量杨树外植体脱毒工作,节约时间和人力,此外,经过该方法脱毒处理的外植体有较强的生根性能,可为杨树无性繁殖和组织培养提供新的工作方法和育种材料。

技术领域

本发明涉及林木遗传育种技术领域,涉及一种杨树外植体脱毒试剂、脱毒方法及应用。

背景技术

山新杨品种是以山杨为母本,新疆杨为父本,经过20多年的杂交组合得到的后代性状稳定的多倍体杨树。树干通直,树皮光滑淡绿色,披白粉,果序自然脱落不飞絮。该品种与对照品种新疆杨比较,适应性更强,抗逆性更好,耐低温,在北方大部分地区种植时无冻害发生。山新杨生根能力较差,常规扦插成活率低,扦插苗表面和内部寄生各种细菌及真菌。常规的杨树外植体脱毒方式主要使用叶片或茎尖作为外植体进行脱菌消毒处理,主要步骤包括灭菌、浸泡、冲洗、筛选、组织培养,操作过程繁琐,费时费力,可能因为操作不当导致消毒效果不彻底,出现外植体污染,污染率过高等情况。另外,常规外植体脱毒过程中使用消毒剂会破坏植物组织,增加成本,生根率也较差,很难大规模应用到后续移栽中。鉴于目前常规杨树外植体脱毒方法存在的各种问题,亟需一种简单易行并且能够解决上述技术问题的新的脱毒方法。

发明内容

本发明的目的是提供一种杨树外植体脱毒试剂、脱毒方法及应用,以解决上述现有技术存在的问题,改变常规杨树外植体脱毒方法过程繁琐的缺陷,该方法减少外植体因实验操作和消毒剂造成的植物组织损伤,简单易行,可大大提高外植体脱菌效率。

为实现上述目的,本发明提供了如下方案:

本发明一种杨树外植体脱毒试剂,包括:75%乙醇和100-200mg/L头孢霉素溶液,采用两种试剂对所述杨树外植体进行交替处理。

本发明还提供一种杨树外植体脱毒方法,包括用所述的杨树外植体脱毒试剂进行脱毒,具体包括以下步骤:

1)将杨树外植体用75%乙醇进行喷洒处理,再用100-200mg/L头孢霉素溶液进行浸泡处理;

2)经步骤1)浸泡处理后的杨树外植体用无菌水冲洗两次或两次以上,吸干杨树外植体表面水分后再用75%乙醇和100-200mg/L头孢霉素溶液依次进行浸泡处理,吸干水分后即完成杨树外植体消毒处理;

3)消毒处理完成后的杨树外植体,插入生根培养基,于25-30℃,黑暗和光照交替条件下进行培养,至长出良好根系;

4)从步骤3)长出良好根系的消毒外植体上剪下处于发育阶段的腋芽,重新插入生根培养基,再置于25-30℃,黑暗和光照交替条件下进行培养,长成植株后完成脱毒过程,可用于移栽。

优选的是,步骤1)中杨树外植体选自扦插30-40天杨树扦插苗上剪取,且带有腋芽健壮茎段,先用75%乙醇进行喷洒处理,再剪去叶片和叶柄,之后再用100-200mg/L头孢霉素溶液浸泡处理10-15min。

优选的是,步骤2)中用75%乙醇和100-200mg/L头孢霉素溶液依次浸泡15-20min,剪去两端1-2mm边缘茎段后完成外植体消毒处理。

优选的是,步骤3)和步骤4)中黑暗和光照交替条件为16h/8h,其中光照强度为2800–3000Lux。

优选的是,步骤3)和步骤4)中所述生根培养基包括以下质量浓度的组分:1/2MS+IBA 0.2mg/L+NAA 0.01mg/L+蔗糖25g/L+琼脂5.2g/L。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东北林业大学,未经东北林业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110332124.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top