[发明专利]一种二次供水用稀释罐清洗装置在审
申请号: | 202110330860.1 | 申请日: | 2021-03-29 |
公开(公告)号: | CN113134491A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 高晓昆;程立;刘新贵 | 申请(专利权)人: | 重庆昕晟环保科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B9/08;B08B9/30;B08B9/34;B08B9/42;B08B13/00;F26B15/18;F26B21/00 |
代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 | 代理人: | 毛光军 |
地址: | 401120 重庆市渝*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二次 供水 稀释 清洗 装置 | ||
本发明公开了一种二次供水用稀释罐清洗装置,包括超声波清洗机、稀释罐限位框、推送组件、导向组件、输送组件、冲洗组件和烘干组件,所述输送组件包括弹性限位部和由步进电机驱动的输送带,输送带上设有均匀的通孔和均匀的网孔,弹性限位部分别固定在通孔四周;所述冲洗组件设置在输送带的中部,所述烘干组件设置在输送带的右端,所述超声波清洗机设置在输送带的左端一侧;所述推送组件设置在超声波清洗机的一侧,所述导向组件设置在超声波清洗机的另一侧与输送带之间,所述稀释罐限位框可升降地设置在超声波清洗机的清洗槽内。本发明能一次性实现稀释罐的清洗、冲洗和烘干,不仅清洗的更干净,还有效提高了清洗效率和降低了人工劳动强度。
技术领域
本发明涉及二次供水技术领域,尤其涉及一种二次供水用稀释罐清洗装置。
背景技术
目前我国城市生活饮用水(俗称自来水)的消毒绝大多数都是采用含氯制剂消毒,在自来水中加入含氯制剂后,能够长时间在自来水管网系统中保持足够的余氯浓度,从而保证自来水中的微生物被控制在合格范围内,余氯系指使用含氯制剂消毒时,加氯接触一定时间后,水中所剩余的氯量。常用的含氯制剂有液氯、氯胺和次氯酸钠。
二次供水是指当民用与工业建筑生活饮用水对水压、水量的要求超过城镇公共供水或自建设施供水管网能力时,通过储存、加压等设施经管道供给用户或自用的供水方式。二次供水设施主要包括储水设备、加压设备和管线三部分。二次供水储水设备(以下简称水箱)作为城市供水管网系统的末端承担着保证自来水水质安全最后一道屏障的作用,自来水在水箱中会停留一段时间,如果停留时间过长则余氯浓度可能衰减到很低的水平,起不到有效杀灭水中微生物的作用,造成水箱中自来水的微生物指标超标。
在国家标准GB28233-2011《次氯酸钠发生器安全与卫生标准》第7条中明确规定“次氯酸钠消毒液用于生活饮用水消毒的允许使用浓度(以有效氯含量计)为2-4mg/L”。同时,在国家标准GB28233-2011《次氯酸钠发生器安全与卫生标准》第5.8条中明确规定“使用次氯酸钠发生器产生的次氯酸钠消毒液进行消毒处理,应现用现制备”。为了在满足上述标准的前提下使水箱中自来水能够持续保持足够的余氯浓度,申请号为2020101026235的文献在2020年6月11日公开了一种二次供水智能补加氯消毒系统及补加氯的方法。该技术通过稀释罐配合能够将消毒原液有效稀释到设定浓度并加入到水箱中,从而有效防止自来水中的微生物超标。但是,稀释罐被制造出来后,其内部通常附着有杂质等,即稀释罐的内部并不是完全干净的。为了保证消毒液加入的有效性以及避免杂质进入水箱,在使用稀释罐前需要对其需要清洗。但目前通常都是人工单个清洗,其存在着清洗效率较低、人工劳动强度较大和清洗不干净的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中存在的上述问题,提供了一种二次供水用稀释罐清洗装置,本发明能够一次性实现稀释罐的清洗、冲洗和烘干,整个过程半自动化完成,不仅清洗的更干净,还有效提高了清洗效率和降低了人工劳动强度。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
本发明公开了一种二次供水用稀释罐清洗装置,其特征在于:包括超声波清洗机、稀释罐限位框、推送组件、导向组件、输送组件、冲洗组件和烘干组件,所述输送组件包括弹性限位部和由步进电机驱动的输送带,输送带上设有均匀的通孔和均匀的网孔,弹性限位部分别固定在通孔四周;所述冲洗组件设置在输送带的中部,所述烘干组件设置在输送带的右端,所述超声波清洗机设置在输送带的左端一侧;所述推送组件设置在超声波清洗机的一侧,所述导向组件设置在超声波清洗机的另一侧与输送带之间,所述稀释罐限位框可升降地设置在超声波清洗机的清洗槽内;其中,推送组件用于将经超声波清洗机清洗后的稀释罐从稀释罐限位框中推送至导向组件中,导向组件用于使稀释罐的罐口卡固在弹性限位部上,冲洗组件用于同时从内部和外部冲洗稀释罐,烘干组件用于同时从内部和外部烘干稀释罐。
所述稀释罐限位框通过设置在超声波清洗机内部的升降组件升降或通过设置在超声波清洗机上方的升降组件升降。
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