[发明专利]显示控制装置及记录介质在审
| 申请号: | 202110328347.9 | 申请日: | 2021-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN113466238A | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
| 发明(设计)人: | 太田和弘;园原猛史 | 申请(专利权)人: | 新东工业株式会社 |
| 主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人: | 杨黎峰;姜香丹 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 控制 装置 记录 介质 | ||
1.一种显示控制装置,其特征在于,具备控制器,
所述控制器执行显示处理,在所述显示处理中,将指示铸模的缺陷的标记以光学方式显示在所述铸模上,所述铸模是基于通过对所述铸模的检查而获得的检查结果来指定的。
2.根据权利要求1所述的显示控制装置,其特征在于,所述控制器在所述显示处理中控制投影仪以将指示所述铸模的缺陷的标记图像投影到所述铸模上。
3.根据权利要求2所述的显示控制装置,其特征在于,所述控制器在所述显示处理中将所述标记图像投影到与所述铸模的所述缺陷相对应的位置。
4.根据权利要求1所述的显示控制装置,其特征在于,所述控制器在所述显示处理中控制激光光源以向所述铸模照射激光。
5.根据权利要求4所述的显示控制装置,其特征在于,所述控制器在所述显示处理中将所述激光照射到与所述铸模的所述缺陷相对应的位置。
6.根据权利要求4或5所述的显示控制装置,其特征在于,所述控制器在所述显示处理中根据所述缺陷的形态使所述激光的照射形态不同。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的显示控制装置,其特征在于,所述控制器还执行:在沿输送路径输送的多个铸模中指定显示检查结果的铸模的指定处理,
在所述显示处理中,在沿所述输送路径输送的所述多个铸模中与检查结果相对应的铸模上以光学方式显示表示该铸模的缺陷的标记,所述铸模的缺陷通过检查在所述指定处理中指定的铸模而获得的检查结果来指示。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的显示控制装置,其特征在于,所述控制器具备:
根据预先决定的程序执行所述各个处理的至少一个处理器;以及
保存所述程序的至少一个存储器。
9.一种记录介质,其特征在于,所述记录介质是计算机能够读取的记录介质,
在所述记录介质中存储有程序,
在由处理器执行所述程序时,所述记录介质使所述计算机执行以下步骤:
将指示铸模的缺陷的标记以光学方式显示在该铸模上,其中,所述铸模是基于通过对所述铸模的检查而获得的检查结果来指定的。
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