[发明专利]一种大功率肖特基二极管有效
| 申请号: | 202110326192.5 | 申请日: | 2021-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN113130626B | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
| 发明(设计)人: | 周勇 | 申请(专利权)人: | 先之科半导体科技(东莞)有限公司 |
| 主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/47;H01L29/872 |
| 代理公司: | 东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙) 44400 | 代理人: | 姜华 |
| 地址: | 523430 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 大功率 肖特基 二极管 | ||
1.一种大功率肖特基二极管,其特征在于,包括N型衬底(10),所述N型衬底(10)下设有阴极金属层(11),所述阴极金属层(11)的四周围绕有第一绝缘保护环(111),所述第一绝缘保护环(111)围绕于N型衬底(10)的底面边缘,所述第一绝缘保护环(111)的厚度大于所述阴极金属层(11)的厚度;
所述N型衬底(10)上设有厚度为d的N型外延层(12),所述N型外延层(12)的顶部四周设有P型保护环(13),所述P型保护环(13)的顶部位于所述N型外延层(12)的上方,所述P型保护环(13)的底部嵌入于所述N型外延层(12)中,所述N型外延层(12)的顶部中间设有若干等间隔设置的凹陷槽(121),所有的所述凹陷槽(121)均位于所述P型保护环(13)的围绕中,所述凹陷槽(121)的深度为h,0.3d≤h≤0.6d,相邻两个所述凹陷槽(121)之间的距离为1.2~1.8μm,所述P型保护环(13)所围绕的所述N型外延层(12)上覆盖有肖特基势垒层(20),所述肖特基势垒层(20)还覆盖于所述凹陷槽(121)的内壁,所述肖特基势垒层(20)的端壁与所述P型保护环(13)的内壁之间连接有第二绝缘保护环(21),避免肖特基势垒层(20)与P型保护环(13)直接作用;所述肖特基势垒层(20)的顶部覆盖有阳极金属层(22);
所述P型保护环(13)的顶部四周设有钝化保护环(14),所述P型保护环(13)上还覆盖有环形的功函数金属层(15),所述阳极金属层(22)还覆盖于所述功函数金属层(15)上,所述功函数金属层(15)围绕于所述钝化保护环(14)的内侧,所述功函数金属层(15)在所述N型外延层(12)上的投影围绕于所述第二绝缘保护环(21)外,所述功函数金属层(15)与所述阳极金属层(22)的厚度之和小于所述钝化保护环(14)的厚度;
所述第一绝缘保护环(111)外固定有散热陶瓷套(30),所述散热陶瓷套(30)还围绕于所述N型衬底(10)、所述N型外延层(12)、所述P型保护环(13)和所述钝化保护环(14)外。
2.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述阴极金属层(11)为镍金属层。
3.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述N型衬底(10)的掺杂浓度大于所述N型外延层(12)的掺杂浓度。
4.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述N型外延层(12)的厚度d为3~10μm,所述凹陷槽(121)的深度h为1.2~1.6μm。
5.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述P型保护环(13)的底部为阶梯状结构,所述P型保护环(13)的厚度从靠近所述凹陷槽(121)的一端向靠近所述散热陶瓷套(30)的一端增大,所述P型保护环(13)的最小厚度与所述凹陷槽(121)的深度相等。
6.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述钝化保护环(14)为二氧化硅层。
7.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述功函数金属层(15)为氮化钛层,所述肖特基势垒层(20)为铂金属层,所述阳极金属层(22)为钛金属层或钴金属层。
8.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述阳极金属层(22)的顶部四周设有第三绝缘保护环(23),所述第三绝缘保护环(23)还覆盖于所述钝化保护环(14)上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先之科半导体科技(东莞)有限公司,未经先之科半导体科技(东莞)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110326192.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类





