[发明专利]一种大功率肖特基二极管有效

专利信息
申请号: 202110326192.5 申请日: 2021-03-26
公开(公告)号: CN113130626B 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 周勇 申请(专利权)人: 先之科半导体科技(东莞)有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/47;H01L29/872
代理公司: 东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙) 44400 代理人: 姜华
地址: 523430 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 大功率 肖特基 二极管
【权利要求书】:

1.一种大功率肖特基二极管,其特征在于,包括N型衬底(10),所述N型衬底(10)下设有阴极金属层(11),所述阴极金属层(11)的四周围绕有第一绝缘保护环(111),所述第一绝缘保护环(111)围绕于N型衬底(10)的底面边缘,所述第一绝缘保护环(111)的厚度大于所述阴极金属层(11)的厚度;

所述N型衬底(10)上设有厚度为d的N型外延层(12),所述N型外延层(12)的顶部四周设有P型保护环(13),所述P型保护环(13)的顶部位于所述N型外延层(12)的上方,所述P型保护环(13)的底部嵌入于所述N型外延层(12)中,所述N型外延层(12)的顶部中间设有若干等间隔设置的凹陷槽(121),所有的所述凹陷槽(121)均位于所述P型保护环(13)的围绕中,所述凹陷槽(121)的深度为h,0.3d≤h≤0.6d,相邻两个所述凹陷槽(121)之间的距离为1.2~1.8μm,所述P型保护环(13)所围绕的所述N型外延层(12)上覆盖有肖特基势垒层(20),所述肖特基势垒层(20)还覆盖于所述凹陷槽(121)的内壁,所述肖特基势垒层(20)的端壁与所述P型保护环(13)的内壁之间连接有第二绝缘保护环(21),避免肖特基势垒层(20)与P型保护环(13)直接作用;所述肖特基势垒层(20)的顶部覆盖有阳极金属层(22);

所述P型保护环(13)的顶部四周设有钝化保护环(14),所述P型保护环(13)上还覆盖有环形的功函数金属层(15),所述阳极金属层(22)还覆盖于所述功函数金属层(15)上,所述功函数金属层(15)围绕于所述钝化保护环(14)的内侧,所述功函数金属层(15)在所述N型外延层(12)上的投影围绕于所述第二绝缘保护环(21)外,所述功函数金属层(15)与所述阳极金属层(22)的厚度之和小于所述钝化保护环(14)的厚度;

所述第一绝缘保护环(111)外固定有散热陶瓷套(30),所述散热陶瓷套(30)还围绕于所述N型衬底(10)、所述N型外延层(12)、所述P型保护环(13)和所述钝化保护环(14)外。

2.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述阴极金属层(11)为镍金属层。

3.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述N型衬底(10)的掺杂浓度大于所述N型外延层(12)的掺杂浓度。

4.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述N型外延层(12)的厚度d为3~10μm,所述凹陷槽(121)的深度h为1.2~1.6μm。

5.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述P型保护环(13)的底部为阶梯状结构,所述P型保护环(13)的厚度从靠近所述凹陷槽(121)的一端向靠近所述散热陶瓷套(30)的一端增大,所述P型保护环(13)的最小厚度与所述凹陷槽(121)的深度相等。

6.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述钝化保护环(14)为二氧化硅层。

7.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述功函数金属层(15)为氮化钛层,所述肖特基势垒层(20)为铂金属层,所述阳极金属层(22)为钛金属层或钴金属层。

8.根据权利要求1所述的一种大功率肖特基二极管,其特征在于,所述阳极金属层(22)的顶部四周设有第三绝缘保护环(23),所述第三绝缘保护环(23)还覆盖于所述钝化保护环(14)上。

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