[发明专利]三环类衍生物及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种通式(I)所示的化合物或其立体异构体、互变异构体或其可药用的盐：

其中：

G选自一个含有1-2个氮原子的4～12元的杂环基，其中所述杂环基任选进一步被一个或多个R^c所取代；

X和Y各自独立地选自N或CR^f；

环A选自5～6元杂芳基；

R^c相同或不同，各自独立地选自氢原子、烷基、卤素、硝基、氰基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、＝O、-OR⁴、-C(O)OR⁴、-NHC(O)R⁴、-NHC(O)OR⁴、-NR⁵R⁶、-C(O)NR⁵R⁶、-CH₂NHC(O)OR⁴、-CH₂NR⁵R⁶或-S(O)_rR⁴，其中所述的烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基任选进一步被一个或多个选自烷基、卤素、硝基、氰基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、＝O、-OR⁴、-C(O)R⁴、-C(O)OR⁴、-NHC(O)R⁴、-NHC(O)OR⁴、-NR⁵R⁶、-C(O)NR⁵R⁶、-CH₂NHC(O)OR⁵、-CH₂NR⁶R⁷或-S(O)_rR⁵的取代基所取代；

R^f选自氢原子、卤素、烷基或烷氧基；其中所述的烷基或烷氧基任选进一步被一个或多个选自卤素、羟基、氰基、烷基或烷氧基的取代基所取代；R^f优选为卤素，更优选为氟或氯；

R¹选自氢原子、卤素、烷基或烷氧基；其中所述的烷基或烷氧基任选进一步被一个或多个选自卤素、羟基、氰基、烷基或烷氧基的取代基所取代；R¹优选为氢原子；

R²选自芳基或杂芳基，其中所述的芳基或杂芳基任选进一步被一个或多个选自烷基、卤素、硝基、氰基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、＝O、-OR⁴、-C(O)R⁴、-C(O)OR⁴、-NHC(O)R⁴、-NHC(O)OR⁴、-NR⁵R⁶、-C(O)NR⁵R⁶、-CH₂NHC(O)OR⁴、-CH₂NR⁵R⁶或-S(O)_rR⁴的取代基所取代；其中所述的烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基任选进一步被一个或多个选自烷基、卤素、硝基、氰基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、＝O、-OR⁴、-C(O)R⁴、-C(O)OR⁴、-NHC(O)R⁴、-NHC(O)OR⁴、-NR⁵R⁶、-C(O)NR⁵R⁶、-CH₂NHC(O)OR⁴、-CH₂NR⁵R⁶或-S(O)_rR⁴的取代基所取代；

R³选自不存在、氢原子、卤素、烷基、烷氧基、氰基、卤代烷基或卤代烷氧基，优选为不存在或氢原子；

R⁴选自氢原子、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基，其中所述的烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基任选进一步被一个或多个选自羟基、卤素、硝基、氰基、烷基、烷氧基、卤代烷基、卤代烷氧基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、＝O、-C(O)R⁷、-C(O)OR⁷、-OC(O)R⁷、-NR⁸R⁹、-C(O)NR⁸R⁹、-SO₂NR⁸R⁹或-NR⁸C(O)R⁹的取代基所取代；

R⁵和R⁶各自独立地选自氢原子、羟基、卤素、烷基、烷氧基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基，其中所述的烷基、烷氧基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基任选进一步被一个或多个选自羟基、卤素、硝基、氰基、烷基、烷氧基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、＝O、-C(O)R⁷、-C(O)OR⁷、-OC(O)R⁷、-NR⁸R⁹、-C(O)NR⁸R⁹、-SO₂NR⁸R⁹或-NR⁸C(O)R⁹的取代基所取代；

或者，R⁵和R⁶与它们相连接的原子一起形成一个4～8元杂环基，其中4～8元杂环基内含有一个或多个N、O或S(O)_r，并且所述的4～8元杂环基任选进一步被一个或多个选自羟基、卤素、硝基、氰基、烷基、烷氧基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、＝O、-C(O)R⁷、-C(O)OR⁷、-OC(O)R⁷、-NR⁸R⁹、-C(O)NR⁸R⁹、-SO₂NR⁸R⁹或-NR⁸C(O)R⁹的取代基所取代；

R⁷、R⁸和R⁹各自独立地选自氢原子、烷基、氨基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基，其中所述的烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基任选进一步被一个或多个选自羟基、卤素、硝基、氨基、氰基、烷基、烷氧基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羧基或羧酸酯基的取代基所取代；

n选自0、1或2；

r为0、1或2。