[发明专利]用于冲击扰流气膜复合冷却的双层壁人字形扰流柱结构

权利要求书

1.一种用于冲击扰流气膜复合冷却的双层壁人字形扰流柱结构，沿流体流动方向依次包括冲击板、冲击腔和气膜板；其特征在于，所述冲击腔包括阵列无间隔排布的多个基元，各基元包括相对布置的两个层壁、供流体流入所述基元的冲击孔、人字形扰流柱和供流体流出所述基元的气膜孔；所述冲击孔、所述人字形扰流柱和所述气膜孔布置于所述两个层壁之间；所述冲击孔开设于所述冲击板上且靠近所述两个层壁之一；所述气膜孔开设于所述气膜板上且靠近所述两个层壁另一个；

其中，所述人字形扰流柱包括顶部和从所述顶部分别向两侧且由上向下向外倾斜扩展的两个侧翼；所述气膜孔布置于所述顶部上方；各侧翼分别与所述两个层壁形成减缩通道，所述冲击孔布置于所述两个侧翼下方并且配置成使得从所述冲击孔流入流体经过所述减缩通道流向所述气膜孔。

2.根据权利要求1所述的双层壁人字形扰流柱结构，其特征在于，各基元包括1-2个冲击孔、1个人字形扰流柱和满足最小加工间距要求的多个气膜孔。

3.根据权利要求2所述的双层壁人字形扰流柱结构，其特征在于，2个冲击孔布置于所述人字形扰流柱正下方，多个气膜孔均布于所述人字形扰流柱正上方。

4.根据权利要求1-3任一项所述的双层壁人字形扰流柱结构，其特征在于，各基元大小具有纵向长度3.72mm～6.4mm，轴向长度3mm～6mm。

5.根据权利要求1-3任一项所述的双层壁人字形扰流柱结构，其特征在于，所述两个侧翼的宽度为0.4mm～0.8mm。

6.根据权利要求1-3任一项所述的双层壁人字形扰流柱结构，其特征在于，所述冲击孔和所述气膜孔的孔径为0.4mm～0.5mm。