[发明专利]一种适用于深孔类结构激光斜冲击工艺参数设计方法

权利要求书

1.一种适用于深孔类结构激光斜冲击工艺参数设计方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，将激光入射光源等效成无数平行直线光源，根据激光斜冲击能量传递特点构建能量衰减模型；

步骤2，根据靶材产生等离子体所需能量最低阈值E_t及能量衰减模型确定激光入射能量E_input设置下限值；

步骤3，根据激光斜冲击靶材表面辐照光斑形状及能量衰减规律确定光斑搭接率ε_p最小值。

2.根据权利要求1所述的一种适用于深孔类结构激光斜冲击工艺参数设计方法，其特征在于，所述靶材表面设置铝箔或者黑色油漆作为吸收层，水作为约束层。

3.根据权利要求1所述的一种适用于深孔类结构激光斜冲击工艺参数设计方法，其特征在于，步骤1中，将激光沿着光斑椭圆长轴方向等效成n条单位平行光源，根据能量守恒定律满足关系式：

E_input＝E_e+E_output

其中，E_input为入射能量，E_output为反射能量，E_e为有效能量；材料反射比吸收比当激光斜冲击辐照在空内壁时，所形成的空间包络面平面展开后为长轴为的椭圆，θ为光源与水平方向夹角；

第x条光源产生的反射能量为

第x条光线辐照的靶材表面吸收的有效能量为

4.根据权利要求3所述的一种适用于深孔类结构激光斜冲击工艺参数设计方法，其特征在于，所述步骤2中所述靶材表面吸收能量发生电子的阶跃现象，并产生等离子体，而激光诱导材料产生等离子体所需能量最小阈值为E_t。根据能量衰减模型可知激光斜冲击时靶材表面吸收有效能量E_e最小值为要想实现激光斜冲击强化效果，则必须满足E_emin≥E_t，即

5.根据权利要求4所述的一种适用于深孔类结构激光斜冲击工艺参数设计方法，其特征在于，所述步骤3根据能量衰减规律可知，当入射能量E_input固定时，要满足所辐照区域完全产生等离子体，则沿着光斑椭圆长轴第x束光线辐照产生的有效能量E_ex≥E_t，则即光斑搭接率