[发明专利]激光装置和激光装置处理方法在审
| 申请号: | 202110318399.8 | 申请日: | 2021-03-25 |
| 公开(公告)号: | CN114083116A | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
| 发明(设计)人: | 亚历山大·乌若诺夫;三宫暁史;丁一荣;韩圭完;柳廷和 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | B23K26/064 | 分类号: | B23K26/064;B23K26/00 |
| 代理公司: | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 朴英淑 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 激光 装置 处理 方法 | ||
提供激光装置和激光装置处理方法。实施例涉及的激光装置包括:激光束输出部;校正部,校正从所述激光束输出部射出的激光束;激光扫描器,对由所述校正部校正的所述激光束进行扫描;反射体,将由所述激光扫描器扫描的所述激光束反射到处理基板;以及控制部,控制所述校正部,所述控制部根据所述激光扫描器的扫描条件来控制所述校正部。
技术领域
本公开涉及激光装置及其操作方法。
背景技术
通过根据照射激光的基板的位置调节激光入射角等,已经做出了很多 用于提高激光装置的准确度的努力。
在美国专利US 5,087,987中公开了关于具有780-890nm的波长的红外 线光的色彩校正F-θ透镜。然而,在该专利公开的方法中所利用的F-θ透镜 会因高输出激光器或使用紫外线光的激光器而受损,从而难以适用于高输 出激光器或利用紫外线光的装置。
在美国专利US 5,838,481中公开了适用F-θ透镜和凹面镜(concave mirror)的内容。然而,由于激光照射沿着一个方向一维地进行扫描,因 此为了对二维面积进行全部扫描,需要反复进行多次相同的一维扫描。
在国际专利WO2012/131015中公开了利用可改变单色光激光束的波 形的镜子的内容。然而,该方法依然是沿着激光照射方向一维地进行扫描, 因此为了对二维面积进行全部扫描,需要反复进行多次一维扫描。
根据美国申请公开US 2008/0259425,公开了激光束聚焦要素位于扫 描头部内的激光加工装置。虽然公开了用于将激光束的焦点调节到扫描镜 并使像场弯曲(fieldcurvature)平坦化的光束偏转单元,但是难以减小激 光束相对于宽面积的远心(telecentric)误差。
根据美国专利US 8,425,496,虽然利用可变形的(deformable)镜子 (mirror),但是由于利用F-θ透镜,因此难以解决色像差问题,并且难以 适用于大面积。此外,F-θ透镜可能会因高输出激光器或利用紫外线光的 激光器而受损,因此难以适用于高输出激光器或利用紫外线光的装置中。
为了对大面积的基板进行处理,需要向大面积的基板表面照射远心误 差小的激光束。为了减小远心误差,虽然可利用尺寸大的远心透镜,但是 由于这种透镜昂贵且笨重,因此在成本和制造工序上存在问题。
发明内容
各实施例用于提供利用高能量的激光源进行调节使得能够入射可聚 焦至宽的二维面积的强度的激光,从而可处理大面积基板的激光装置。
本发明的目的并不限于上述的目的,应理解在不脱离本发明的思想和 领域的范围内可进行各种扩展。
实施例涉及的激光装置可包括:激光束输出部;校正部,校正从所述 激光束输出部射出的激光束;激光扫描器,对由所述校正部校正的所述激 光束进行扫描;反射体,将由所述激光扫描器扫描的所述激光束反射到处 理基板;以及控制部,控制所述校正部,所述控制部根据所述激光扫描器 的扫描条件来控制所述校正部。
所述校正部可包括可变形的镜子。
所述校正部可包括微孔薄膜、压电元件、微机电系统中的至少一个。
所述控制部可包括存储器,所述存储器可存储根据所述激光扫描器的 扫描角度的所述校正部的形状数据。
所述激光扫描器可包括第一扫描器和第二扫描器,所述第一扫描器可 沿着第一方向对所述激光束进行扫描,并且所述第二扫描器可沿着与所述 第一方向垂直的第二方向对所述激光束进行扫描。
所述激光装置还可包括位于所述激光扫描器与所述反射体之间的第 一光学体,所述第一光学体可被配置成比所述反射体更靠近所述激光扫描 器。
所述第一光学体可为球面透镜。
所述反射体可为球面镜子。
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