[发明专利]R-T-B系烧结磁体用合金粉末的制造方法和粉碎系统在审
申请号: | 202110317859.5 | 申请日: | 2021-03-25 |
公开(公告)号: | CN113451030A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 森本仁 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
主分类号: | H01F41/02 | 分类号: | H01F41/02;H01F1/057 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;吕秀平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 烧结 磁体 合金 粉末 制造 方法 粉碎 系统 | ||
本发明要解决的技术问题在于:提高利用喷射磨粉碎的粉碎效率。解决方案在于:本发明的R-T-B系烧结磁体用合金粉末的制造方法包括:向具有分级转子的喷射磨粉碎装置供给R-T-B系烧结磁体用合金(R为稀土元素中的至少一种且必须包含Nd和Pr中的至少一种,T为过渡金属元素中的至少一种且必须包含Fe。B为硼)的粗粉碎粉的工序;和在上述喷射磨粉碎装置的内部将上述粗粉碎粉粉碎而形成微粉碎粉,利用上述分级转子将上述微粉碎粉排出的粉碎工序,在上述粉碎工序中,对喷射磨粉碎装置内部的停留粉末重量和上述分级转子的旋转速度两者进行控制。
技术领域
本发明涉及R-T-B系烧结磁体用合金粉末的制造方法和喷射磨粉碎系统。
背景技术
R-T-B系烧结磁体(R为稀土元素中的至少一种且必须包含Nd和Pr中的至少一种,T为过渡金属元素中的至少一种且必须包含Fe。B为硼。)由具有R2Fe14B型结晶结构的化合物的主相和位于该主相的晶界部分的晶界相以及因微量添加元素和杂质的影响生成的化合物相构成,已知为在永久磁体中性能最高的磁体。因此,R-T-B系烧结磁体被用于电动汽车(EV、HV、PHV)用电动机、硬盘驱动器的音圈马达(VCM)、工业设备用电动机等各种电动机和家电制品等多种多样的用途。
这样的R-T-B系烧结磁体例如经过准备原料合金粉末的工序、将原料合金粉末压制成型而制作粉末成型体的工序、将粉末成型体烧结的工序进行制造。原料合金粉末能够通过例如以下的方法制作。
首先,通过铸锭法或薄带连铸法等方法由各种原料金属的熔液制造原料合金。将得到的原料合金供于粉碎工序,得到具有规定的粒径分布的合金粉末。在该粉碎工序中,通常包括粗粉碎工序和微粉碎工序,前者例如使用机械粉碎或氢脆化现象进行,后者例如使用气流式粉碎机(喷射磨粉碎装置)进行。
专利文献1公开了一种喷射磨粉碎装置,其为了抑制粉碎后的粒度分布的变动,以使停留在粉碎室内的被粉碎物达到一定量的方式设定被粉碎物(粗粉碎粉)的供给量。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2000-317339号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
在喷射磨粉碎装置内,从原料投入机投入到粉碎室内的被粉碎物彼此通过从粉碎喷嘴喷射的高速非活性气体而发生碰撞,从而被粉碎。在粉碎室内的粉末颗粒被微细地粉碎后,通过分级转子被取出,收集到回收罐。为了使被回收的微粉碎粉的粒度分布相同,需要使粉碎室内的粉碎条件成为一定。
目前,为了使粉碎条件一定,被认为需要将被投入到喷射磨粉碎装置内的被粉碎物的重量维持一定。专利文献1基于这样的技术常识,以不使粉末的粒度分布发生变动为目的,公开了测定并管理停留在喷射磨粉碎装置内的被粉碎物的重量的技术方案。
喷射磨粉碎装置是一种适于高效地进行微粉碎的微粉碎装置,但是随着目标粒度变小,粉碎效率会降低。近年来,为了进一步提高R-T-B系烧结磁体的性能,作为原料合金粉末,被要求是平均粒径(中值粒径)为4μm以下的微细粉末。因此,在喷射磨粉碎装置中,要求能够应对粉末的微细化的提高粉碎效率的方法。本发明的实施方式提供能够解决这样的技术问题的R-T-B系烧结磁体的制造方法和粉碎系统。
用于解决技术问题的技术方案
本发明的R-T-B系烧结磁体用合金粉末的制造方法在实施方式中,包括:向具有分级转子的喷射磨粉碎装置供给R-T-B系烧结磁体用合金的粗粉碎粉的工序;和在上述喷射磨粉碎装置的内部将上述粗粉碎粉粉碎而形成微粉碎粉,利用上述分级转子将上述微粉碎粉排出的粉碎工序,在上述粉碎工序中,对喷射磨粉碎装置内部的停留粉末重量和上述分级转子的旋转速度两者进行控制。
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