[发明专利]示踪方法和示踪系统

权利要求书

1.一种示踪方法，其特征在于，包括：

使用示踪气体发生设备处理两种以上的示踪剂，分别形成不同的示踪气体；所述示踪剂为PLIF示踪剂；

将各示踪气体通过投放设备导入风洞；所述投放设备设置有两个以上的投放通道；所述各示踪气体分别通过不同的投放通道导入风洞；

成像设备激发所述各示踪气体，使所述各示踪气体辐射荧光信号，生成荧光图像；

控制设备获取所述荧光图像，并根据所述荧光图像确定湍流流场的转捩点。

2.根据权利要求1所述的示踪方法，其特征在于，所述控制设备获取所述荧光图像之后，还包括：

控制设备根据所述荧光图像，调整所述投放设备的参数。

3.根据权利要求1所述的示踪方法，其特征在于，所述示踪气体发生设备包括鼓泡罐，所述使用示踪发生设备处理示踪剂形成示踪气体，包括：

将鼓泡气体导入鼓泡罐中的液体示踪剂中，与所述鼓泡罐中的示踪剂蒸汽混合，形成由鼓泡气体与所述示踪剂蒸汽组成的示踪气体。

4.根据权利要求1所述的示踪方法，其特征在于，所述PLIF示踪剂为酮类示踪剂、芳香族类示踪剂或无机示踪剂。

5.根据权利要求1所述的示踪方法，其特征在于，所述投放设备为钢管，所述将各示踪气体通过投放设备导入风洞，包括：

将各示踪气体通过钢管的一端导入到所述钢管内的不同投放通道中；所述钢管的另一端封闭，且所述钢管的背风面对应设置有至少一个与对应投放通道相连的出气口；

所述各示踪气体分别经过对应出气口导入风洞。

6.一种示踪系统，其特征在于，包括示踪气体发生设备、投放设备、成像设备和控制设备；

所述示踪气体发生设备用于处理两种以上的示踪剂，分别形成不同的示踪气体；所述示踪剂为PLIF示踪剂；

所述投放设备用于将各示踪气体导入风洞；所述投放设备设置有两个以上的投放通道；所述各示踪气体分别通过不同的投放通道导入风洞；

所述成像设备用于激发所述各示踪气体，使所述各示踪气体辐射荧光信号，生成荧光图像；

所述控制设备用于获取所述荧光图像，并根据所述荧光图像确定湍流流场的转捩点。

7.根据权利要求6所述的示踪系统，其特征在于，所述示踪气体发生设备包括依次连接的高压气瓶、气体质量流量计和鼓泡罐；所述气体质量流量计连接所述控制设备，所述鼓泡罐连接所述投放设备。

8.根据权利要求6所述的示踪系统，其特征在于，所述成像设备包括激发装置和探测装置。

9.根据权利要求8所述的示踪系统，其特征在于，所述激发装置包括激光光源和光束传递装置。

10.根据权利要求8所述的示踪系统，其特征在于，所述探测装置包括分束镜，以及两个以上的滤光片和探测器；所述滤光片和所述探测器对应设置，用于分别探测不同PLIF示踪剂的荧光图像。