[发明专利]一种银钼合金薄膜及其制备方法与应用有效
申请号: | 202110313669.6 | 申请日: | 2021-03-24 |
公开(公告)号: | CN113073245B | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
发明(设计)人: | 周灵平;高宝龙;朱家俊;符立才;杨武霖;李德意 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | C22C27/04 | 分类号: | C22C27/04;C23C14/16;C23C14/34;C23C14/35;H01H1/023;H01H11/04 |
代理公司: | 长沙轩荣专利代理有限公司 43235 | 代理人: | 李喆 |
地址: | 410000 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 合金 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种银钼合金薄膜,其特征在于,所述薄膜中包括纯银相和银固溶于钼的固溶体相,所述薄膜厚度为:0.1~30µm;
所述银钼合金薄膜采用双靶聚焦共沉积法在任意无机材料衬底上制备的,其中双靶分别为纯钼靶和纯银靶;
所述聚焦共沉积法为磁控溅射;
所述薄膜中,钼的原子百分含量为:50~89 at.%;
所述固溶体相中,银的固溶度小于10 at.%;
所述钼靶和银靶的溅射功率比:为0.7~0.9。
2.一种如权利要求1所述的银钼合金薄膜在电接触材料涂层中的应用。
3.一种如权利要求1所述的银钼合金薄膜在电磁炮轨道涂层中的应用。
4.一种如权利要求1所述的银钼合金薄膜在“发汗”材料中的应用。
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