[发明专利]一种基于两性离子的抗污染超滤膜及其制备方法和应用有效
| 申请号: | 202110313339.7 | 申请日: | 2021-03-24 |
| 公开(公告)号: | CN113041853B | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
| 发明(设计)人: | 汪勇;张晨旭;周洁梅 | 申请(专利权)人: | 南京工业大学 |
| 主分类号: | B01D69/02 | 分类号: | B01D69/02;B01D69/12;B01D67/00;B01D71/34;B01D71/68;B01D71/78;B01D71/80;C02F1/44 |
| 代理公司: | 北京兆君联合知识产权代理事务所(普通合伙) 11333 | 代理人: | 刘俊玲 |
| 地址: | 210009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 两性 离子 污染 超滤膜 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种基于两性离子的抗污染超滤膜,它是由带有叔胺基团的聚合物多孔膜经原位氧化得到的表面及孔道内部均富集有正负离子基团之间无碳原子存在的两性离子的超滤膜;所述的带有叔胺基团的聚合物是两亲性嵌段共聚物、共混聚合物或接枝聚合物中的任意一种或两种以上的组合物;所述的两亲嵌段共聚物,其极性嵌段选自聚甲基丙烯酸N,N-二甲氨基乙酯(PDMAEMA)或聚甲基丙烯酸N,N-二乙氨基乙酯(PDEAEMA)中的任意一种,其非极性的主体嵌段为聚苯乙烯(PS);所述的共混聚合物,其主体成分为聚砜(PSF)、聚偏二氟乙烯(PVDF)或PS;添加成分为PDMAEMA或PDEAEMA;所述的接枝聚合物是接枝链中带有叔胺基团的接枝聚合物,所述的接枝链选自聚甲基丙烯酸N,N-二甲氨基乙酯(PDMAEMA)或聚甲基丙烯酸N,N-二乙氨基乙酯(PDEAEMA)中的任意一种;所述的原位氧化是将所述的多孔膜浸泡于过氧化氢和水的组合物,其中过氧化氢占的质量比为0.5%-10%;所述原位氧化的温度为50°C-65°C,所述氧化时间为0.5h-20h。
2.权利要求1所述的抗污染超滤膜,其特征在于,所述的两亲嵌段共聚物的极性嵌段为PDMAEMA。
3.制备基于两性离子的抗污染超滤膜的方法,包括:将带有叔胺基团的聚合物溶解后制备致密膜;所述致密膜通过致孔处理得到多孔膜,后将多孔膜进行原位氧化处理,得到所述的基于正负离子基团之间无碳原子存在的两性离子的抗污染超滤膜;所述的带有叔胺基团的聚合物是两亲性嵌段共聚物、共混聚合物或接枝聚合物中的任意一种或两种以上的组合物;所述的两亲嵌段共聚物,其极性嵌段选自聚甲基丙烯酸N,N-二甲氨基乙酯(PDMAEMA)或聚甲基丙烯酸N,N-二乙氨基乙酯(PDEAEMA)中的任意一种;其非极性的主体嵌段为聚苯乙烯(PS);所述的共混聚合物,其主体成分为聚砜(PSF)、聚偏二氟乙烯(PVDF)或PS;添加成分为PDMAEMA或PDEAEMA;所述的接枝聚合物是接枝链中带有叔胺基团的接枝聚合物,所述的接枝链选自聚甲基丙烯酸N,N-二甲氨基乙酯(PDMAEMA)或聚甲基丙烯酸N,N-二乙氨基乙酯(PDEAEMA)中的任意一种;所述的原位氧化是将所述的多孔膜浸泡于过氧化氢和水的组合物,其中过氧化氢占的质量比为0.5%-10%;所述原位氧化的温度为50°C-65°C,所述氧化时间为0.5h-20h。
4.权利要求3所述的方法,其特征在于:所述的氧化温度为60°C,氧化时间为2.5~20h。
5.权利要求3所述的方法,其特征在于:所述的氧化温度为60°C,氧化时间为5~20h。
6.权利要求3所述的方法,其特征在于:所述的氧化温度为60°C,氧化时间为10~20h。
7.权利要求3所述的方法,其特征在于:所述的氧化温度为60°C,氧化时间为10h。
8.权利要求3所述的方法,其特征在于:所述的两亲嵌段共聚物的极性嵌段为PDMAEMA。
9.权利要求1所述的基于两性离子的抗污染超滤膜在制备水处理材料或生物医学材料中的应用。
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