[发明专利]线宽测量方法和线宽测量装置在审

专利信息
申请号: 202110307788.0 申请日: 2021-03-23
公开(公告)号: CN113091673A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 王明望 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G01B21/02 分类号: G01B21/02
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 徐世俊
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 测量方法 测量 装置
【说明书】:

本申请实施例提供一种线宽测量方法和线宽测量装置,线宽测量方法包括:采集测量样本的视野图像,所述测量样本为具有线路图案的基板;将预存的与所述视野图像中的特征图案对应的标准图案与所述特征图案进行匹配;若匹配成功,则在所述视野图像中获取预设图案;以所述预设图案为基准定位所述视野图案中的待测图案,并对所述待测图案的目标线宽进行测量,以得到所述目标线宽的测量结果。本申请实施例使用两级定位来减少特征图案的偏移对线宽测量的影响,提高了线路边线抓取识别的准确性,使得线宽测量结果可靠,进而减小了对显示面板制程的影响。

技术领域

本申请属于显示面板技术领域,尤其涉及一种线宽测量方法和线宽测量装置。

背景技术

在显示面板的生产流程中,线宽或线距等关键尺寸(Critical Dimension,CD)对于器件的性能有重要的影响,因此线宽或者线距的测量关系到产品的品质。

线宽测量装置在进行测量时,需要首先移动到测量点位,在测量视野中定位特征图案,再通过待测图案设定中的目标线宽与特征图案的相对位置进行抓边识别,从而测量出目标线宽。

然而,因定位不精准产生的误差以及特征图案中不同点位间的制程不同,特征图案与标准图案匹配时会产生不同的重合度,由此产生特征图案的偏移,从而导致测量结果失真,影响显示面板的制程。

发明内容

本申请实施例提供一种线宽测量方法和线宽测量装置,以减少特征图案的偏移对线宽测量的影响以及减小对显示面板制程的影响。

第一方面,本申请实施例提供一种线宽测量方法,包括:

采集测量样本的视野图像,所述测量样本为具有线路图案的基板;

将预存的与所述视野图像中的特征图案对应的标准图案与所述特征图案进行匹配;

若匹配成功,则在所述视野图像中获取预设图案;

以所述预设图案为基准定位所述视野图案中的待测图案,并对所述待测图案的目标线宽进行测量,以得到所述目标线宽的测量结果。

可选的,所述获取预设图案包括:

识别所述视野图像中两条非平行的线路边线,并将所述两条非平行的线路边线作为所述预设图案。

可选的,所述识别所述视野图像中两条非平行的线路边线,并将所述两条非平行的线路边线作为所述预设图案包括:

识别所述视野图像中两条垂直的线路边线,并将所述两条垂直的线路边线作为所述预设图案。

可选的,以所述预设图案的两条垂直的线路边线建立坐标系,所述坐标系中相互垂直的两个坐标轴与所述两条垂直的线路边线部分重合,所述坐标系的坐标轴原点为所述两条垂直的线路边线的交点或所述两条垂直的线路边线延长线的交点。

可选的,所述若匹配成功之前,还包括:

将所述标准图案与所述特征图案进行重合度比较;

当所述标准图案与所述特征图案的重合度大于或等于70%,则匹配成功。

可选的,所述基板对应所述待测图案具有多条走线和多条沟道,每一所述沟道位于相邻的两条所述走线之间。

可选的,每一所述沟道的宽度范围为2.5微米至5微米;和/或每一所述走线的宽度范围为2微米至3微米。

可选的,应用于线宽测量装置,所述采集测量样本的视野图像之前,还包括:

移动所述线宽测量装置至目标线宽所在区域;

控制所述线宽测量装置在测量视野内进行对焦操作。

第二方面,本申请实施例还提供一种线宽测量装置,包括:

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