[发明专利]一种在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法及核用耐辐照结构材料在审
| 申请号: | 202110307692.4 | 申请日: | 2021-03-23 |
| 公开(公告)号: | CN113073320A | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
| 发明(设计)人: | 陈立佳;毕贵军;韩冰;卢隆星;张理;郭震 | 申请(专利权)人: | 广东省科学院智能制造研究所 |
| 主分类号: | C23C24/10 | 分类号: | C23C24/10;C22C30/00;C22C1/02;B22F9/14;B22F9/04;B22F1/00;G21F1/08 |
| 代理公司: | 北京隆源天恒知识产权代理事务所(普通合伙) 11473 | 代理人: | 鲍丽伟 |
| 地址: | 510070 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 结构 材料 表面 制备 合金 涂层 方法 核用耐 辐照 | ||
1.一种在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法,其特征在于,包括:
以Zr、W、Ta、Hf、V、Ti、Cr和Ce中的至少三种金属单质为原料,利用电弧熔炼法制备高熵合金块体,对所述高熵合金块体进行破碎、球磨得到高熵合金粉末,对所述高熵合金粉末进行等离子球化,得到高熵合金球形粉末;
以所述高熵合金球形粉末为熔覆材料,利用激光熔覆法在核用结构材料表面制备高熵合金涂层。
2.根据权利要求1所述的在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法,其特征在于,所述原料中各元素的摩尔比为Zr:W:Ta:Hf:V:Ti:Cr:Ce为0-25:0-25:0-25:0-25:0-25:0-25:0-25:0-5。
3.根据权利要求1所述的在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法,其特征在于,所述等离子球化的过程在等离子球化装置中进行,所述等离子球化装置的输出功率为40kW,送粉速度为50-180g/min,中央气和载气为氩气,鞘流气为氩氢混合气,其中,所述中央气的流量为15-30L/min,所述载气的流量为2-4L/min,所述鞘流气的流量为50-70L/min。
4.根据权利要求1所述的在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法,其特征在于,所述高熵合金球形粉末的粒径为15-70μm。
5.根据权利要求1所述的在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法,其特征在于,所述对所述高熵合金块体进行破碎、球磨得到高熵合金粉末包括:
将所述高熵合金块体破碎成尺寸小于2mm的颗粒,得到高熵合金颗粒,将所述高熵合金颗粒置于不锈钢球磨罐中进行高能球磨,球磨时控制球料比为12-15:1,球磨时间为20-36h,球磨时转速为250-350rpm。
6.根据权利要求1所述的在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法,其特征在于,所述激光熔覆法的工艺参数包括:所用激光器的激光功率为400-800W,激光扫描速度为10-20mm/s,搭接率为30-50%,保护气体氩气的流量为10mL/min,送粉器的送粉速度为3-5r/min。
7.根据权利要求1所述的在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法,其特征在于,所述高熵合金涂层的厚度为100-1000μm。
8.根据权利要求1所述的在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法,其特征在于,电弧熔炼的过程在电弧炉中进行,所述电弧炉的熔炼气氛为氩气,所述原料在所述电弧炉中翻转熔炼5-8次。
9.根据权利要求1所述的在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法,其特征在于,所述核用结构材料为进行过表面处理的核用结构材料,所述表面处理的过程包括:将核用结构材料表面经酒精清洗、烘干后,使用粒度为200目的棕刚玉对酒精清洗并烘干后的核用结构材料表面进行喷砂,喷砂结束后,使用酒精对喷砂后的核用结构材料进行超声清洗,去除表面残留颗粒,得到所述核用结构材料。
10.一种核用耐辐照结构材料,其特征在于,包括核用结构材料和采用如权利要求1-9任一项所述的在核用结构材料表面制备高熵合金涂层的方法制得的高熵合金涂层。
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