[发明专利]微结构膜系、光学成像镜头和制备膜系的方法在审

专利信息
申请号: 202110304398.8 申请日: 2021-03-22
公开(公告)号: CN113031124A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 蒯泽文;郑磊;袁银潮 申请(专利权)人: 浙江舜宇光学有限公司
主分类号: G02B1/118 分类号: G02B1/118;G02B7/02;C23C28/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 刘娜
地址: 315499 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 微结构 光学 成像 镜头 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种微结构膜系,其特征在于,包括:

基底层(10);

过渡层(20),所述过渡层(20)包括叠置的至少一个第一过渡层(21)和至少一个第二过渡层(22),所述第一过渡层(21)与所述第二过渡层(22)的折射率不同,所述过渡层(20)的一侧表面与所述基底层(10)连接;

微结构膜层(30),所述微结构膜层(30)与所述过渡层(20)的另一侧表面连接,所述微结构膜层(30)远离所述基底层(10)的一侧表面具有多个微结构(31),所述微结构(31)的折射率沿垂直于所述基底层(10)的方向呈梯度设置。

2.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述微结构(31)的折射率大于等于1且小于等于1.3。

3.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述第一过渡层(21)和/或所述第二过渡层(22)为多个时,所述第一过渡层(21)与所述第二过渡层(22)交替叠置。

4.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述基底层(10)的折射率大于等于1.4且小于等于1.7。

5.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述第一过渡层(21)的折射率大于等于1.5且小于等于2.5。

6.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述第二过渡层(22)的折射率大于等于1.4且小于等于1.5。

7.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述基底层(10)的材料包括APEL、EP、K9、K26R中的一种。

8.一种光学成像镜头,其特征在于,包括:

镜筒;

透镜,所述透镜为多个,且多个所述透镜沿所述镜筒的轴向间隔设置;

权利要求1至7中任一项所述的微结构膜系,所述微结构膜系设置在至少一个所述透镜的表面上。

9.一种光学成像镜头,其特征在于,包括:

镜筒;

透镜,所述透镜为多个,多个所述透镜间隔设置在所述镜筒内;

基底层(10),所述基底层(10)设置在至少一个所述透镜的至少一侧表面上;

微结构膜层(30),所述微结构膜层(30)设置在所述基底层(10)远离所述透镜的一侧表面上,所述微结构膜层(30)远离所述透镜的表面具有多个微结构(31),所述微结构(31)在垂直于所述透镜的方向上的折射率逐渐减小。

10.一种制备膜系的方法,其特征在于,应用所述制备膜系的方法制备权利要求1至7中任一项所述的微结构膜系,所述制备膜系的方法包括:

所述微结构膜系的基底层(10)的至少一侧表面上沉积所述微结构膜系的第一过渡层(21)和所述微结构膜系的第二过渡层(22)以形成所述微结构膜系的过渡层(20);

所述过渡层(20)远离所述基底层(10)的一侧表面上由原子层沉积技术制备所述微结构膜系的微结构膜层(30)并在所述微结构膜层(30)的表面形成所述微结构膜系的微结构(31)。

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