[发明专利]微结构膜系、光学成像镜头和制备膜系的方法在审
申请号: | 202110304398.8 | 申请日: | 2021-03-22 |
公开(公告)号: | CN113031124A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 蒯泽文;郑磊;袁银潮 | 申请(专利权)人: | 浙江舜宇光学有限公司 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;G02B7/02;C23C28/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 刘娜 |
地址: | 315499 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微结构 光学 成像 镜头 制备 方法 | ||
1.一种微结构膜系,其特征在于,包括:
基底层(10);
过渡层(20),所述过渡层(20)包括叠置的至少一个第一过渡层(21)和至少一个第二过渡层(22),所述第一过渡层(21)与所述第二过渡层(22)的折射率不同,所述过渡层(20)的一侧表面与所述基底层(10)连接;
微结构膜层(30),所述微结构膜层(30)与所述过渡层(20)的另一侧表面连接,所述微结构膜层(30)远离所述基底层(10)的一侧表面具有多个微结构(31),所述微结构(31)的折射率沿垂直于所述基底层(10)的方向呈梯度设置。
2.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述微结构(31)的折射率大于等于1且小于等于1.3。
3.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述第一过渡层(21)和/或所述第二过渡层(22)为多个时,所述第一过渡层(21)与所述第二过渡层(22)交替叠置。
4.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述基底层(10)的折射率大于等于1.4且小于等于1.7。
5.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述第一过渡层(21)的折射率大于等于1.5且小于等于2.5。
6.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述第二过渡层(22)的折射率大于等于1.4且小于等于1.5。
7.根据权利要求1所述的微结构膜系,其特征在于,所述基底层(10)的材料包括APEL、EP、K9、K26R中的一种。
8.一种光学成像镜头,其特征在于,包括:
镜筒;
透镜,所述透镜为多个,且多个所述透镜沿所述镜筒的轴向间隔设置;
权利要求1至7中任一项所述的微结构膜系,所述微结构膜系设置在至少一个所述透镜的表面上。
9.一种光学成像镜头,其特征在于,包括:
镜筒;
透镜,所述透镜为多个,多个所述透镜间隔设置在所述镜筒内;
基底层(10),所述基底层(10)设置在至少一个所述透镜的至少一侧表面上;
微结构膜层(30),所述微结构膜层(30)设置在所述基底层(10)远离所述透镜的一侧表面上,所述微结构膜层(30)远离所述透镜的表面具有多个微结构(31),所述微结构(31)在垂直于所述透镜的方向上的折射率逐渐减小。
10.一种制备膜系的方法,其特征在于,应用所述制备膜系的方法制备权利要求1至7中任一项所述的微结构膜系,所述制备膜系的方法包括:
所述微结构膜系的基底层(10)的至少一侧表面上沉积所述微结构膜系的第一过渡层(21)和所述微结构膜系的第二过渡层(22)以形成所述微结构膜系的过渡层(20);
所述过渡层(20)远离所述基底层(10)的一侧表面上由原子层沉积技术制备所述微结构膜系的微结构膜层(30)并在所述微结构膜层(30)的表面形成所述微结构膜系的微结构(31)。
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