[发明专利]一种低迁移咔唑基酰基膦光引发剂及其合成方法有效
申请号: | 202110302712.9 | 申请日: | 2021-03-22 |
公开(公告)号: | CN113024691B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | 李睿;黄洪;司徒粤;吴银萍 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C08F2/48 | 分类号: | C08F2/48;C07F9/572 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍;江裕强 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 迁移 咔唑基酰基膦光 引发 及其 合成 方法 | ||
1.一种低迁移咔唑基酰基膦光引发剂,其特征在于,结构如下式[Ⅰ]所示:
;
其中,R1选自碳原子数为1-18的烷基、苄基、对甲氧基苄基中的一种;R2为氯。
2.根据权利要求1所述的低迁移咔唑基酰基膦光引发剂,其特征在于,该引发剂的结构式为如下结构中的一种:
。
3.一种权利要求1-2任一项所述低迁移咔唑基酰基膦光引发剂的合成方法,其特征在于,反应方程式如下所示:
。
4.根据权利要求3所述的低迁移咔唑基酰基膦光引发剂的合成方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)往溶剂中加入化合物[Ⅱ]、N,N-二甲基甲酰胺及三氯氧磷,发生Vilsmeier甲酰化反应,生成如结构式[Ⅲ]所示的N-取代基咔唑甲醛;
(2)将步骤(1)所述N-取代基咔唑甲醛与N-氯代丁二酰亚胺反应生成化合物[Ⅳ];
(3)在乙酸乙酯作溶剂的条件下,化合物[Ⅳ]与二苯基膦氧进行反应生成化合物[Ⅴ];
(4)用氧化剂将化合物[Ⅴ]氧化生成式[Ⅰ]所示光引发剂。
5.根据权利要求4所述的低迁移咔唑基酰基膦光引发剂的合成方法,其特征在于,步骤(1)所述溶剂为1,2-二氯乙烷、氯苯中的一种;所述化合物[Ⅱ]与N,N-二甲基甲酰胺的摩尔比为1:1.0-1.1;所述化合物[Ⅱ]与三氯氧磷的摩尔比为1:1.0-1.1;所述化合物[Ⅱ]与溶剂的摩尔体积比为0.59-0.6 :1mol/L;步骤(1)中,往溶剂中加入三氯氧磷时,溶剂的温度为0-5℃;所述Vilsmeier甲酰化反应的温度为80-90℃,Vilsmeier甲酰化反应的时间为10-12 h。
6.根据权利要求4所述的低迁移咔唑基酰基膦光引发剂的合成方法,其特征在于,步骤(2)所述N-取代基咔唑甲醛与N-氯代丁二酰亚胺的摩尔比为1:1.0-1.2,步骤(2)所述反应的时间为12-18 h;步骤(3)所述化合物[Ⅳ]与二苯基膦氧的摩尔比为1:1.1-1.2;步骤(3)所述反应的时间为10-12 h;步骤(3)所述化合物[Ⅳ]在乙酸乙酯中的浓度为0.19-0.21mol/L;步骤(4)所述氧化剂为戴斯-马丁氧化剂、活性二氧化锰中的一种。
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