[发明专利]一种基于电光效应的PLZT薄膜啁啾光栅调谐装置有效
| 申请号： | 202110295116.2 | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN112859393B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 王志浩;沈常宇;王凯晴;黄振林;刘洋;张岳铭 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | G02F1/035 | 分类号： | G02F1/035;G02F1/03;G02B6/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 电光 效应 plzt 薄膜 啁啾 光栅 调谐 装置 | ||
1.一种基于电光效应的PLZT薄膜啁啾光栅调谐装置，其特征为：由光纤（1）、光纤固定架（2）、PLZT薄膜啁啾光纤光栅（3）、高压电场发生器阴极（4）、高压电场发生器阳极（5）和绝缘底板（6）组成；所述PLZT薄膜啁啾光纤光栅（3）与光纤（1）相连，被光纤固定架（2）固定在绝缘底板（6）上面，在绝缘底板（6）的两侧分别安装高压电场发生器阴极（4）和高压电场发生器阳极（5）；
所述高压电场发生器阴极（4）和高压电场发生器阳极（5）通过改变施加在PLZT薄膜啁啾光栅（3）上的电场大小，激发PLZT薄膜的电光效应，实现PLZT薄膜啁啾光纤光栅（3）的色散补偿量调节；所述PLZT薄膜啁啾光纤光栅（3）的制备过程如下：首先用氢氟酸溶液腐蚀光敏光纤包层至光纤直径为10到15微米，然后采用磁控溅射镀膜法在包层被腐蚀的光纤表面镀PLZT薄膜并进行500到600摄氏度的高温退火处理，然后对镀有PLZT薄膜的光敏光纤进行载氢处理，最后采用相位掩模板刻栅法在载氢后的光敏光纤的镀膜位置刻写啁啾光栅；所述PLZT薄膜啁啾光纤光栅（3）的PLZT薄膜的厚度为0.3到1微米。
2.根据权利要求1所述的一种基于电光效应的PLZT薄膜啁啾光栅调谐装置，其特征在于：所述PLZT薄膜啁啾光纤光栅（3）的长度为5到15毫米。
3.根据权利要求1所述的一种基于电光效应的PLZT薄膜啁啾光栅调谐装置，其特征在于：所述PLZT薄膜啁啾光纤光栅（3）的PLZT薄膜的覆盖长度为15到20毫米，大于PLZT薄膜啁啾光纤光栅（3）的长度。
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