[发明专利]光学装置及包含该装置的光刻系统及其曝光方法

权利要求书

1.光学装置，包括空间光调制器，所述空间光调制器对光源照明面不同区域的光进行空间调制并反射为具有第一图形的光；其特征在于：所述光学装置还包括至少一光学模组，所述光学模组用于处理所述具有第一图形的光并在最终像面投影出第二图形。

2.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于：所述光学模组包括至少一第一镜头组件、至少一第二镜头组件及至少一第三镜头组件，其中

所述第一镜头组件设置于所述空间光调制器的出射端，以用于形成具有至少两束第一母图形的光；

所述第二镜头组件设置于所述第一镜头组件的出射端，以用于形成子图形；

所述第三镜头组件用于将所述子图形成像至像面形成第二图形。

3.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于：所述光学模组包括至少一第五镜头组件以及至少一第六镜头组件，其中

所述第五镜头组件设置于所述空间光调制器的出射端，以用于将具有第一图形的光分割成具有至少三束第二母图形的光并且经过反射和平移形成子图形；

所述第六镜头组件设置于所述第五镜头组件的出射端，以用于将所述子图形成像至像面形成第二图形，所述第二图形由至少三个第二母图形的光经过第五镜头组件和第六镜头组件成像后的像面图形拼接或分离构成。

4.如权利要求2所述的光学装置，其特征在于：所述第一镜头组件包括至少一第一镜片组，所述第一镜片组具有至少两个反射面。

5.如权利要求2所述的光学装置，其特征在于：所述第二镜头组件包括至少一个第二镜片组和第三镜片组，所述第二镜片组和所述第三镜片组用于将所述第一母图形的光沿分割线方向进行位置调整。

6.如权利要求2所述的光学装置，其特征在于：所述第三镜头组件包括至少一个第四镜片组和至少一个第五镜片组，所述第四镜片组或第五镜片组具有至少一个镜片以用于将至少一个所述第二镜头组件形成的子图形成像至第二像面。

7.如权利要求2所述的光学装置，其特征在于：所述第三镜头组件包括至少一个第六镜片组，所述第六镜片组具有至少一个镜片以用于将所述第二镜头组件形成的子图形成像至第二像面。

8.如权利要求1所述的光学装置，其特征在于：所述光学模组还包括第四镜头组件，所述第四镜头组件设置于所述空间光调制器的出射端，以用于放大或缩小所述空间光调制器反射的具有第一图形的光。

9.光刻系统，其特征在于：包括如权利要求1～8任一项所述的光学装置，所述光学装置设置于光源和二维载物平台之间，所述二维载物平台被同步运动控制装置控制，以通过所述同步运动控制装置移动所述二维载物平台，使承载曝光对象的二维载物平台与光学装置的相对运动实现不同区域的曝光。

10.一种光刻系统的曝光方法，其特征在于包括以下步骤：

空间光调制器接收光源所发射的激光并调制成具有第一图形的光；

通过第一镜头组件接收所述具有第一图形的光并进行分割，使所述具有第一图形的光被分割成至少两束具有第一母图形的光或通过第五镜头组件接收所述具有第一图形的光进行分割，使所述具有第一图形的光被分割成至少三束具有第二母图形的光；

通过第二镜头组件接收具有第一母图形的光并形成被分割的子图形或通过第五镜头组件接收具有第二母图形的光并形成被分割的子图形；

通过第三镜头组件或第六镜头组件将所述子图形投影至像面以形成第二图形，所述第二图形可以是由至少两个子图形的像拼接或分离构成。

11.如权利要求10所述的光刻系统的曝光方法，其特征在于：所述第一母图形的光或所述第二母图形的光被分割时横向分割和/或纵向分割。

12.如权利要求10所述的光刻系统的曝光方法，其特征在于：所述第一母图形的光或所述第二母图形的光被分割时等比例分割和/或非等比例分割。