[发明专利]一种具有凹面的靶材背板的制造方法

权利要求书

1.一种具有凹面的靶材背板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

平板坯料退火：所述平板坯料采用无氧铜坯料或铜合金坯料或铝合金坯料或钛合金坯料或钼坯料制成，在真空环境或惰性气体环境中，对所述平板坯料进行退火，退火温度为380℃至860℃，退火时间为0.4h至4.1h，形成退火平板坯料；

锻打成型：在与以上步骤中退火温度相同的条件下，使用具有凸起的锻造模具多次锻打所述退火平板坯料，直到所述退火平板坯料具有与所述锻造模具契合的凹面后停止锻打，形成凹面坯料；具体为：所述锻造模具包括上模和下模，所述上模的下表面具有凹槽，所述下模的上表面具有凸起，所述凸起与凹槽匹配；所述下模以凸起朝上的方式放置于平台上，所述退火平板坯料放置于所述凸起的上表面，所述上模位于所述退火平板坯料的上方，使用空气锤多次捶打所述上模，使得所述上模锻打所述退火平板坯料；

凹面坯料退火：在真空环境或惰性气体环境中，对所述凹面坯料进行退火，退火温度不高于所述平板坯料退火步骤中的退火温度，退火时间不低于所述平板坯料退火步骤中的退火时间，形成具有凹面的靶材背板。

2.如权利要求1所述的具有凹面的靶材背板的制造方法，其特征在于，在所述凹面坯料退火步骤之后，还包括粗糙度加工步骤如下：

对所述具有凹面的靶材背板的表面进行粗糙度加工，使其表面的粗糙度为Ra0.32μm至Ra0.61μm。

3.如权利要求1所述的具有凹面的靶材背板的制造方法，其特征在于，在所述锻打成型步骤中，每次锻打的锻打力为3kN至15kN，每次锻打时所述锻造模具下降的速度为1mm/s至15mm/s。

4.如权利要求1至3任一项所述的具有凹面的靶材背板的制造方法，其特征在于，所述平板坯料为无氧铜坯料或铜合金坯料。

5.如权利要求4所述的具有凹面的靶材背板的制造方法，其特征在于，所述平板坯料退火步骤中的退火温度为640℃至690℃，退火时间为1.8h至3.2h；所述锻打成型步骤中，每次锻打的锻打力为5kN至8kN，每次锻打时所述锻造模具下降的速度为3mm/s至15mm/s；所述凹面坯料退火步骤中的退火温度为640℃至690℃，退火时间为1.8h至3.2h。

6.如权利要求1至3任一项所述的具有凹面的靶材背板的制造方法，其特征在于，所述平板坯料为铝合金坯料。

7.如权利要求6所述的具有凹面的靶材背板的制造方法，其特征在于，所述平板坯料退火步骤中的退火温度为380℃至450℃，退火时间为0.4至0.6h；所述锻打成型步骤中，每次锻打的锻打力为3kN至4kN，每次锻打时所述锻造模具下降的速度为1mm/s至8mm/s；所述凹面坯料退火步骤中的退火温度为340℃至370℃，退火时间为1.5h至2.5h。

8.如权利要求1至3任一项所述的具有凹面的靶材背板的制造方法，其特征在于，所述平板坯料为钛合金坯料；所述平板坯料退火步骤中的退火温度为780℃至820℃，退火时间为2h至3h；所述锻打成型步骤中，每次锻打的锻打力为10kN至15kN，每次锻打时所述锻造模具下降的速度为3mm/s至6mm/s；所述凹面坯料退火步骤中的退火温度为780℃至820℃，退火时间为2h至3h。

9.如权利要求1至3任一项所述的具有凹面的靶材背板的制造方法，其特征在于，所述平板坯料为钼坯料；所述平板坯料退火步骤中的退火温度为840℃至860℃，退火时间为3.5h至4.5h；所述锻打成型步骤中，每次锻打的锻打力为10kN至15kN，每次锻打时所述锻造模具下降的速度为1mm/s至3mm/s；所述凹面坯料退火步骤中的退火温度为840℃至860℃，退火时间为2h至3h。