[发明专利]一种检测钴中杂质元素含量的方法有效

申请号：	202110292450.2	申请日：	2021-03-18
公开（公告）号：	CN113049671B	公开（公告）日：	2023-05-12
发明（设计）人：	姚力军;潘杰;王学泽;钟伟华;周童;余琼;马兰	申请（专利权）人：	宁波江丰电子材料股份有限公司;中国兵器科学研究院宁波分院
主分类号：	G01N27/68	分类号：	G01N27/68;G01N1/32;G01N1/34
代理公司：	北京远智汇知识产权代理有限公司 11659	代理人：	王岩
地址：	315400 浙江省宁波市***	国省代码：	浙江;33
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摘要：
搜索关键词：	一种检测杂质元素含量方法
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【权利要求书】：

1.一种检测钴中杂质元素含量的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(1)对样品钴依次进行打磨、第一酸洗和第二酸洗，得到处理后样品钴；

所述第一酸洗包括采用第一混合酸进行清洗，所述第一混合酸中H₂SO₄、H₂O₂和H₂O的体积比为(0.5～1.5):(2.5～3.5):1；所述第一酸洗包括至少两次的第一混合酸清洗；两次所述第一混合酸清洗之间包括一次超纯水清洗；第一混合酸清洗在超声处理下进行；所述超声处理的频率为15～25kHz；所述超声处理的时间为2～4min；

所述第二酸洗采用第二混合酸进行清洗，所述第二混合酸中HNO₃、HF和H₂O的体积比为(0.5～1.5):(1.5～2.5):3；所述第二酸洗的时间为2～4min；

(2)对步骤(1)所述处理后样品钴进行辉光放电质谱分析，得到样品钴中的杂质元素含量；

所述辉光放电质谱分析依次包括抽真空、制冷和溅射；

所述溅射包括预溅射；

所述预溅射的时间为5～10min。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述样品钴为块状。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述样品钴包括溅射面。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述样品钴的溅射面的长度为20～25mm。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述样品钴的溅射面的宽度为20～25mm。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述样品钴的高度为5～20mm。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述样品钴的纯度≥99.99wt％。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述样品钴中的杂质元素包括Na、Mg、Al、Si、P、S、Cl、Ti、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、As和Mo。