[发明专利]一种V73E改性屏蔽剂、制备方法及其在护肤品中的应用

说明书

本发明属于化妆品技术领域，具体涉及一种V73E改性屏蔽剂、制备方法及其在护肤品中的应用。该高分散水性浆体是由无机‑有机复合紫外屏蔽剂通过分散于去离子水中而制得，所述的无机‑有机复合紫外屏蔽剂与去离子水质量之比为0.1～0.4:1；所述的无机‑有机复合紫外屏蔽剂是由V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物中加入有机紫外屏蔽剂而制得，所述的有机紫外屏蔽剂与V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物的质量之比为0.5～2:1。本发明首次采用了一种新型多用途有机聚合物改性剂（V73E），该有机聚合物改性剂兼具分散和乳化等功能，即可作为无机紫外屏蔽剂的分散剂，又可作为有机紫外屏蔽剂的乳化剂，可用于制备无机‑有机紫外屏蔽剂高分散水性浆料。

技术领域

本发明属于化妆品技术领域，尤其涉及一种V73E改性屏蔽剂、制备方法及其在护肤品中的应用。

背景技术

太阳光到达地球表面的紫外线大多为长波紫外线（UVA）和中波紫外线（UVB），它们能对皮肤的表皮层产生伤害，使皮肤老化甚至导致皮肤癌。为此，开发高性能紫外屏蔽剂已成为化妆品企业急需解决的难题之一。紫外屏蔽剂可分为无机紫外屏蔽剂（如：纳米二氧化钛和纳米氧化锌）和有机紫外屏蔽剂（如：亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基酚（MBBT）和二乙氨基羟苯甲酰基苯甲酸己酯（DHHB）。但是，这些紫外屏蔽剂成份单一，这就造成其紫外线屏蔽范围窄，不能全波段地阻隔紫外线。

为此，通常采用无机-有机紫外屏蔽剂复配使用，以达到优异的全波段紫外线屏蔽效果。然而，无机紫外屏蔽剂为纳米级颗粒，表面能较高；有机紫外屏蔽剂易重结晶，这些特性使得无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂在水性体系中复配使用时存在易团聚、难分散、易沉淀和稳定性差等一系列问题，不能达到纳米级高分散的目的，不能发挥出协同屏蔽紫外线的效果，极大地影响了全波段紫外线屏蔽性能。

发明内容

针对背景技术中所存在的问题，为了解决无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂在水性体系中复配使用时存在的难分散、易团聚、易沉淀以及稳定性差等问题，本发明提供一种V73E改性屏蔽剂。

本发明另一目的在于提供一种V73E改性屏蔽剂的制备方法。

本发明再一目的在于提供一种V73E改性屏蔽剂在护肤品中的应用。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案的特征步骤如下：一种V73E改性屏蔽剂，该V73E改性屏蔽剂是由有机聚合物改性剂V73E、无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂而制得，其中，所述的有机聚合物改性剂V73E，其结构式如下：

，

其中：R₁、R₂、R₃ = H或CH₃；m=10~50，n=10~100（m、n均为整数）。

优选的，本发明所述的有机聚合物改性剂V73E、无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂，其质量比为1：（5.5～20.6）：（8～18）。

优选的，本发明所述的V73E改性屏蔽剂是由如下步骤制得的：

1）V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物的制备

将异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E混合均匀，其中异氰酸酯基硅烷偶联剂与有机聚合物改性剂V73E的质量比为0.03～0.1：1；在温度为40℃～50℃条件下搅拌反应1～3小时，然后加入无机紫外屏蔽剂，升温至80℃～95℃，继续搅拌反应3～8小时，制得V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物；其中，所述的异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E的总质量与无机紫外屏蔽剂之比为0.05～0.2：1；

2）V73E改性屏蔽剂的制备