[发明专利]高色度薄片在审

专利信息
申请号: 202110281950.6 申请日: 2017-06-27
公开(公告)号: CN113050209A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: J.赛德尔;M.特维斯;K.梁;J.J.库纳;J.齐巴;保罗·T·科尔曼 申请(专利权)人: 唯亚威通讯技术有限公司
主分类号: G02B5/12 分类号: G02B5/12;G02B5/22;G02B5/26
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 张瑞;杨明钊
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 色度 薄片
【权利要求书】:

1.一种用于形成物品的方法,包括:

在基底上沉积第一吸收器层;

在所述第一吸收器层上沉积第一选择性光调制器层;

在所述第一选择性光调制器层上沉积反射器;

在所述反射器上沉积第二选择性光调制器层;以及

在所述第二选择性光调制器层上沉积第二吸收器层;

其中,所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个使用液体涂覆工艺来沉积。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述液体涂覆工艺是选自以下的工艺:单个和多层涂覆中的槽珠、滑动珠、槽帘、滑动帘,拉伸网槽,凹印和辊涂。

3.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个包括以下中的至少一种:(i)光引发剂,所述光引发剂包括膦氧化物,和(ii)氧抑制减缓组分,所述氧抑制减缓组分包括至少一种丙烯酸酯单体和至少一种丙烯酸酯低聚物。

4.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层各自独立地包括选择性光调制器颗粒,所述选择性光调制器颗粒包括色移颗粒、反射颜料、量子点、氟化物或其混合物。

5.根据权利要求1所述的方法,其中所述液体涂覆工艺包括将沉积的第一选择性光调制器层和第二选择性光调制器层的每一个固化。

6.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一选择性光调制器和所述第二选择性光调制器的每一个包括溶剂,并且所述方法还包括在固化沉积的第一选择性光调制器层和第二选择性光调制器层的每一个之前,将所述溶剂从沉积的第一选择性光调制器层和第二选择性光调制器层蒸发。

7.根据权利要求1所述的方法,其中对于沉积的第一选择性光调制器层和第二选择性光调制器层的每一个的粘度在10cP到3000cP的范围内。

8.根据权利要求1所述的方法,其中沉积的第一选择性光调制器层和第二选择性光调制器层的每一个以在0.1m/min到1000m/min的速度被沉积。

9.根据权利要求1所述的方法,其中具有溶剂的更大原始重量百分比的沉积的第一选择性光调制器层和第二选择性光调制器层的每一个形成具有较小固化薄膜厚度的最终第一选择性光调制器层和第二选择性光调制器层。

10.一种在基底上形成金属外观的方法,包括:

将物品添加到液体介质中,以形成色移染色剂;以及

将所述色移染色剂施加到所述基底的至少一部分上,其中所述色移染色剂呈现高色度;

其中所述物品包括:反射器,所述反射器具有第一表面以及与所述第一表面相反的第二表面;

在所述反射器的所述第一表面外部的第一选择性光调制器层;

在所述反射器的所述第二表面外部的第二选择性光调制器层;

在所述第一选择性光调制器层外部的第一吸收器层;以及

在所述第二选择性光调制器层外部的第二吸收器层;

其中,所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的每一个包括基质材料。

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