[发明专利]光学机台检验方法

权利要求书

1.一种光学机台检验方法，其特征在于，包括下列步骤：

(a)设计一灰阶可调均匀光源阵列，以量测一光源提供的灰阶亮度变化信息；

(b)该灰阶可调均匀光源阵列输入一测试图样；

(c)根据该测试图样计算出一实际亮度；

(d)一待测光学机台拍摄该测试图样并经计算后得到一撷取亮度；以及

(e)根据该实际亮度与该撷取亮度之间的差异产生该待测光学机台是否需校正的评价。

2.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，还包括：

(f)自动进行校正，以提供正确的光学机台拍摄环境。

3.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，该光源可采用雷射、发光二极管、冷阴极萤光灯管或其他光源。

4.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该灰阶可调均匀光源阵列设计为穿透型时，该灰阶可调均匀光源阵列包括一第一透镜、一第二透镜及一穿透单元，该光源发出的光依序通过该第一透镜、该第二透镜及该穿透单元而射至该待测光学机台。

5.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该灰阶可调均匀光源阵列设计为垂直反射型时，该灰阶可调均匀光源阵列包括一第一透镜、一第二透镜及一垂直反射单元，该光源发出的光依序通过该第一透镜及该第二透镜后由该垂直反射单元垂直反射至该待测光学机台。

6.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该灰阶可调均匀光源阵列设计为斜向反射型时，该灰阶可调均匀光源阵列包括一第一透镜、一第二透镜及一斜向反射单元，该光源发出的光依序通过该第一透镜及该第二透镜后由该斜向反射单元斜向反射至该待测光学机台。

7.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该灰阶可调均匀光源阵列设计为匀光器型时，该灰阶可调均匀光源阵列包括一第一透镜、一第一匀光器、一第二匀光器、一第二透镜及一穿透单元，该光源发出的光依序通过该第一透镜、该第一匀光器、该第二匀光器、该第二透镜及该穿透单元后射至该待测光学机台。

8.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该灰阶可调均匀光源阵列设计为导光板型时，该灰阶可调均匀光源阵列包括一导光板、一扩散片及一透明模块，该光源发出的光依序通过该导光板、该扩散片及该透明模块后射至该待测光学机台。

9.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该灰阶可调均匀光源阵列设计为导光柱型时，该灰阶可调均匀光源阵列包括一导光柱及一透明模块，该光源发出的光依序通过该导光柱及该透明模块后射至该待测光学机台。

10.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，步骤(c)是将该测试图样经由光学转换函数换算产生该实际亮度。

11.根据权利要求1所述的光学机台检验方法，其特征在于，步骤(e)包括下列步骤：

(e1)计算该实际亮度与该撷取亮度的一差异图形；以及

(e2)通过一演算法分析该差异图形并根据分析结果产生该待测光学机台是否需校正的评价。

12.根据权利要求11所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该差异图形具有相当细致的摩尔纹信号时，步骤(e2)产生该待测光学机台的积分范围参数的设定需校正的评价。

13.根据权利要求11所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该差异图形具有大范围的摩尔纹信号时，步骤(e2)产生该待测光学机台的对焦参数的设定需校正的评价。

14.根据权利要求11所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该差异图形出现局部亮度不均时，步骤(e2)产生该待测光学机台的曝光时间的设定需校正的评价。

15.根据权利要求11所述的光学机台检验方法，其特征在于，当该差异图形出现大范围亮度不均时，步骤(e2)产生该待测光学机台的均匀场的设定需校正的评价。