[发明专利]一种具有高强度HCP相高熵合金的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110271484.3 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN113046615B 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 陈希章;张玉朋;李强 申请(专利权)人: 温州大学
主分类号: C22C30/00 分类号: C22C30/00;C22C1/04;B22F10/20;B33Y10/00;B33Y70/00;B33Y40/20
代理公司: 温州联赢知识产权代理事务所(普通合伙) 33361 代理人: 慈程麟
地址: 325000 浙江省温州市瓯海*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 具有 强度 hcp 相高熵 合金 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有高强度HCP相高熵合金的制备方法,其特征在于,所述高熵合金包括由Co,Cr,Fe,Ni,Ta,Nb单质粉末组成的高熵合金粉末,其原子百分比为1:1:1:1:0.2:0.3,制备方法包含以下几个步骤:

S1:将单质粉末在真空手套箱中按比例混合后与氧化铝研磨球一同放入球磨罐中,粉球的质量比为1:3,高能球磨机以正转5分钟,停5分钟,随后反转5分钟,停5分钟的方式运行,共计运行12个小时;

S2:将混合均匀的高熵合金粉末放在真空干燥箱中干燥5小时后,存储在密闭的容器中备用;

S3:将等离子沉积时用的基板用角磨机打磨光亮后,先后用酒精和丙酮清洗,去除表面的油污;

S4:采用粉末等离子弧增材制造装备对干燥后的高熵合金粉末进行逐层沉积,所述粉末等离子弧增材制造装备的扫描速率为400mm/Min,沉积电流为110A,送粉转速为35r/Min,离子气流量为3L/Min,保护气流量为9L/Min,送粉气流量为4L/Min,气体类型均为氩气,以逐层堆积的方式沉积制作高熵合金;

S5:所述高熵合金的沉积层之间沉积间隔不少于两分钟,所述沉积层每层堆积完毕后在间隔时间内,采用角磨机去除金属表面因保护气不充分造成的氧化皮累积。

2.根据权利要求1所述的一种具有高强度HCP相高熵合金的制备方法,其特征在于,所述粉末等离子弧增材制造过程中,Co,Cr,Fe,Ni,Ta,Nb各组分纯度均在99.95%以上,粒度均在150~300目之间。

3.根据权利要求1所述的一种具有高强度HCP相高熵合金的制备方法,其特征在于,所述步骤S1、S2中均在真空环境中进行,避免打印之前高熵合金粉末的氧化。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于温州大学,未经温州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110271484.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top