[发明专利]高粘接性能聚四氟乙烯薄膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202110270366.0 | 申请日： | 2021-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN112980039A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 邱剑锷 | 申请（专利权）人： | 浙江科赛新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/16 | 分类号： | C08J7/16;C08J7/12;C08L27/18 |
| 代理公司： | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人： | 陆永强;方惠琴 |
| 地址： | 313200 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高粘接 性能 聚四氟乙烯 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种高粘接性能聚四氟乙烯薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)采用等离子体技术对聚四氟乙烯薄膜作表面处理；
(2)将可聚合单体接枝到步骤(1)获得的聚四氟乙烯薄膜表面，获得所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜。
2.如权利要求1所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)在氦气、氩气、氮气或空气气氛中进行。
3.如权利要求2所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)在氩气气氛中进行。
4.如权利要求1所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，在100-3000V的电压强度、常温条件下表面处理0.5-10min。
5.如权利要求4所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，在200-1500V的电压强度、常温条件下表面处理1-5min。
6.如权利要求1所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的可聚合单体为丙烯酸、甲基丙烯酸缩水甘油酯或N,N-二甲基乙酰胺。
7.如权利要求1所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，可聚合单体与步骤(1)获得的聚四氟乙烯薄膜在30-100℃下接枝聚合1-60min。
8.如权利要求7所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，可聚合单体与步骤(1)获得的聚四氟乙烯薄膜在40-90℃下接枝聚合1.5-30min。
9.一种高粘接性能聚四氟乙烯薄膜，其特征在于，采用如权利要求1-8中任意一项所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜的制备方法制备而成。
10.如权利要求9所述的高粘接性能聚四氟乙烯薄膜在制备高频PCB板的应用。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江科赛新材料科技有限公司，未经浙江科赛新材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110270366.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
