[发明专利]一种半导体热电材料制冷平台在审
申请号: | 202110268303.1 | 申请日: | 2021-03-11 |
公开(公告)号: | CN112923600A | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 张响;侯川玉;孔小亚;闫振昊;关国涛;李倩 | 申请(专利权)人: | 郑州大学 |
主分类号: | F25B21/02 | 分类号: | F25B21/02;F25B49/00;F25D1/02;F25D17/02 |
代理公司: | 郑州亦鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 41188 | 代理人: | 张夏谦 |
地址: | 450001 河南省郑州市市*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 热电 材料 制冷 平台 | ||
1.一种半导体热电材料制冷平台,其特征在于:包括半导体制冷陶瓷片(2)、水循环降温系统(3)、温度监测及控制系统、工作平台(1),所述的半导体制冷陶瓷片(2)顶面与工作平台(1)接触,半导体制冷陶瓷片(2)底面与水循环降温系统(3)接触,温度监测及控制系统分别与工作平台(1)、半导体制冷陶瓷片(2)连接。
2.根据权利要求1所述的一种半导体热电材料制冷平台,其特征在于:所述的温度监测及控制系统包括直流电源(4)、DC电压电流调节器(5)、温度传感器(6)、温度控制芯片(7),所述的温度传感器(6)设置在工作平台(1)上,并与温度控制芯片(7)电连接,所述的DC电压电流调节器(5)与半导体制冷陶瓷片(2)电连接。
3.根据权利要求1所述的一种半导体热电材料制冷平台,其特征在于:所述的半导体制冷陶瓷片(2)的工作电压范围为12V-18V,工作电流范围为1A-5A。
4.根据权利要求1所述的一种半导体热电材料制冷平台,其特征在于:所述的工作平台(1)的工作温度为﹣40℃~0℃,温度控制精度为±0.05℃。
5.根据权利要求1所述的一种半导体热电材料制冷平台,其特征在于:所述的半导体制冷陶瓷片(2)为呈阵列排布的半导体制冷陶瓷片组。
6.根据权利要求1所述的一种半导体热电材料制冷平台,其特征在于:所述的水循环降温系统(3)包括增压静音水泵或潜水泵。
7.根据权利要求1所述的一种半导体热电材料制冷平台,其特征在于:所述的工作平台(1)下表面设置有隔热棉(8)。
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