[发明专利]掩膜安装装置及方法、成膜装置及方法、以及基板载置器

说明书

本发明提供一种在将掩膜安装到被保持于基板载置器并被输送的基板上时，可以提高成膜精度的技术。根据本发明，在只由基板载置器支承机构(8)支承与构成基板(5)的周缘部的多个边中的沿着规定方向配置的一对相对的边相对应的基板载置器(9)的一对周缘区域时的基板载置器(9)的挠曲量dc，比只由掩膜支承机构(16)支承与构成掩膜(6)的周缘部的多个边中沿着规定方向配置的一对相对的边相对应的掩膜(6)的一对周缘区域时的掩膜(6)的挠曲量dm大。

技术领域

本发明涉及掩膜安装装置、成膜装置、掩膜安装方法、成膜方法、电子器件制造方法、掩膜、基板载置器、以及基板载置器-掩膜组。

背景技术

作为制造有机EL(有机发光二极管)显示器的方法，已知有通过经由以规定的图样形成开口的掩膜在基板上成膜来形成规定图样的膜的掩膜成膜法。在掩膜成膜法中，在将掩膜与基板的位置对准之后，使掩膜与基板贴紧，进行成膜。

在专利文献1中，记载了使基板保持在卡盘板(也称作“基板载置器”)上，由卡盘板输送基板。并且，在专利文献1中，记载了将被卡在卡盘板上的状态下的基板送入对准室，在对准室内与掩膜对准位置，将掩膜与基板贴合。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：韩国公开特许第10－2018－0067031号公报

发明内容

发明所要解决的课题

近年来，为了增大有机EL显示器的面积及提高生产效率，要求利用大尺寸的基板进行成膜。一般地，在有机EL显示器的制造时，大多使用玻璃、树脂等的薄板作为基板，若基板的尺寸变大，则在水平地保持基板时的挠曲变大。

在掩膜成膜法中，利用与基板大致相同大小的掩膜进行成膜。因此，在对大面积的基板进行成膜时，使用大面积的掩膜，不仅基板挠曲，掩膜也容易挠曲。在专利文献1中，通过将基板卡到卡盘板上来消除基板的挠曲，但是，如上所述，在大面积的情况下，掩膜也产生挠曲。当在该状态下将基板靠近掩膜而使掩膜紧贴基板时，整个接合面的均匀贴紧变得困难，存在着会在形成于基板与掩膜箔之间的间隙中产生不能允许的大的间隙的情况。虽然考虑过在将基板靠近掩膜之后，使磁铁靠近基板的背面(基板的与掩膜相对向的面的相反一侧的面)而将掩膜箔向基板侧牵引，但是，当基板与掩膜箔之间的间隙过大时，存在着不能利用磁力对掩膜箔进行牵引来使其贴紧于基板的情况。

这样，过去，存在着在将掩膜安装到被保持于基板载置器的基板上时，在基板与掩膜箔之间产生大的间隙，基板与掩膜的贴紧不充分，成膜精度会降低的课题。

本发明是鉴于上述课题而做出的，其目的在于提供一种技术，在将掩膜安装到被保持于基板载置器来进行输送的基板上时，能够提高成膜精度。

解决课题的手段

为了解决上述课题，本发明的掩膜安装装置配备有：

支承基板载置器的基板载置器支承机构，所述基板载置器保持基板；

支承掩膜的掩膜支承机构；以及

移动机构，所述移动机构使所述基板载置器支承机构和所述掩膜支承机构中的至少一方移动，以便对所述基板载置器从所述掩膜隔离开的隔离状态与所述基板载置器载置于所述掩膜上的安装状态进行切换，其特征在于，

所述基板载置器支承机构具有：

支承所述基板载置器的沿着第一方向的第一边的周缘部的第一基板载置器支承部；以及

支承所述基板载置器的沿着所述第一方向的第二边的周缘部的第二基板载置器支承部，

所述掩膜支承机构具有：

支承所述掩膜的沿着所述第一方向的第一掩膜边的周缘部的第一掩膜支承部；以及