[发明专利]一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括：

玻璃基层；

功能层，所述功能层位于所述玻璃基层的一侧；

保护膜层，所述保护膜层位于所述功能层远离所述玻璃基层的一侧；

吸收层，所述吸收层位于所述玻璃基层与所述功能层之间，所述吸收层用于吸收太阳光，所述吸收层包括至少三层保护层；

第二介质层和第三介质层，所述第二介质层和所述第三介质层分别位于两所述保护层之间。

2.如权利要求1所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述保护层为NiCr层、Cr层或Cu层的一种或两种。

3.如权利要求2所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述吸收层包括从所述玻璃基层到所述功能层依次设置的第一保护层、第二保护层和第三保护层，所述第一保护层为NiCr层。

4.如权利要求3所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第四保护层，所述第四保护层位于所述功能层与所述保护膜层之间，所述第四保护层为NiCr层、Cr层或Cu层的一种或两种。

5.如权利要求4所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第一介质层，所述第一介质层位于所述玻璃基层与所述第一保护层之间；所述第二介质层位于所述第一保护层与所述第二保护层之间，所述第三介质层位于所述第二保护层与所述第三保护层之间。

6.如权利要求5所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层和/或所述保护膜层为SiNx层，SiNx中x的范围是0.50至1.33；所述第一介质层的厚度为25nm～35nm，所述保护膜层的厚度为30nm～48nm。

7.如权利要求6所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二介质层和/或所述第三介质层为ZnAlOx层和ZnSnOx层的一种或两种；所述第二介质层的厚度为36nm～47nm，所述第三介质层的厚度为38nm～52nm。

8.如权利要求4至7中任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层的厚度为6nm～14nm，所述第二保护层的厚度为6nm～14nm，所述第三保护层的厚度为2nm～5nm，所述第四保护层的厚度为2nm～5nm。

9.如权利要求1至7中任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述功能层为Ag层，所述Ag层的厚度为5nm～14nm。

10.一种低反射率的低辐射镀膜玻璃的制备方法，用于制备如权利要求1至9任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括如下步骤：

在真空环境下用靶材对玻璃基层表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成吸收层、第二介质层、第三介质层、功能层和保护膜层，其中，所述吸收层包括至少三层保护层，所述第二介质层和所述第三介质层分别位于两所述保护层之间。