[发明专利]一种金属腔体毫米波天线在审
| 申请号: | 202110266697.7 | 申请日: | 2021-03-11 |
| 公开(公告)号: | CN113161725A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
| 发明(设计)人: | 王晓川;朱亚新;吕文中;梁飞;雷文;汪小红;范桂芬;付明 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学温州先进制造技术研究院 |
| 主分类号: | H01Q1/36 | 分类号: | H01Q1/36;H01Q1/50;H01Q21/00;H01Q21/06 |
| 代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 黄玉清 |
| 地址: | 325035 浙江省温*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 金属 毫米波 天线 | ||
本发明公开了一种金属腔体毫米波天线,其包括,金属盖板,金属盖板上开有四个辐射口;金属腔体,用于接收电磁波产生谐振;四个金属块体,均匀地置于金属腔内,与腔体底面相连接,与上方四个辐射口共用同一个腔体,形成四个辐射单元,每个金属块的上表面有沿X轴方向的电流,形成一个面电流辐射结构;通过在腔体上方添加金属盖板,每个金属块平行于Y轴的两边与辐射口形成辐射双缝,等效为两个磁流辐射结构。四个辐射单元共用同一个腔体和一个馈电耦合缝隙,使天线结构得到简化;天线的厚度小于一个波长,具有低剖面的特性;整个天线为纯金属结构,避免了介质损耗问题,本发明天线具有低剖面、高增益、低损耗和高效率的特性。
技术领域
本发明涉及毫米波天线领域,具体涉及一种金属腔体毫米波天线。
背景技术
现代无线通信网络已经成为支撑经济繁荣和国家竞争力的基础,并成为人类社会信息共享与协作的基础平台。随着高速率和高安全无线传输需求的增加,毫米波由于具有频带宽、波束窄、传输速率快、抗干扰能力强等优点,其在空间通信、精确制导和高分辨率成像等领域被广泛研究。新兴的高速数据传输毫米波无线系统对低剖面、高增益、高效率和低成本天线有很大的需求。作为无线通信系统的重要组成部分,毫米波天线近年来需求越来越大,具有广阔的应用前景和重要的研究价值。
毫米波天线在提供宽带、低时延、高容量通信的同时,也存在衰减大、穿透能力差等缺点。传统的微带天线、基片集成腔天线由于存在介质损耗,会降低天线的效率,而纯金属结构天线可以避免介质损耗问题,一般具有较高的效率和增益。其中,常见的金属结构天线为背腔天线,磁电偶极子天线等,背腔天线谐振模式多为基模,不能达到高增益效果;电磁偶极子天线,一般单元结构边长约为一个波长,效率较低。
近年来,由于60GHz频段的开放,毫米波天线的设计主要集中在该频段。而在E波段,由于具有较低的空气损耗,形成了良好的大气窗口,具有很好的应用前景。然而,基于E波段的低剖面、低损耗、高效率毫米波天线的发明研究非常少。
发明内容
针对现有技术的缺陷,本发明的目的在于解决毫米波天线无法兼具低剖面、低损耗,高增益和高效率性能的问题。
为实现上述目的,本发明提供了一种金属腔体毫米波天线,包括四个辐射单元,共用一个金属腔体;整个天线逐层由上至下分别为开有辐射口的金属盖板、加载金属块的金属腔体和馈电波导。四个金属块体底面与腔体相连接,每个金属块与上方辐射口形成一个辐射单元。每个金属块体是一个简化的面电流,通过在腔体上方添加金属盖板,金属块沿Y轴方向与辐射口形成两个平行的辐射纵缝,等效为两个磁流辐射结构。
进一步的,所述金属盖板由一层金属板构成,金属板上开有四个辐射口,金属盖板长宽与金属腔体相同,置于金属腔体上方。四个辐射口形状相同,相邻两个辐射口,关于X轴或Y轴对称,中心分别位于辐射盖板边长四分之一处;辐射口形状可为长方形或正方形,沿X轴或Y轴边长的尺寸均介于0.5λ0~λ0之间(λ0为天线中心工作频率对应的空气中的波长),且大于腔内金属块边长。
进一步的,金属块体边长的尺寸介于0.4λ0~0.8λ0之间,小于辐射口面边长,每个金属块表面为沿X轴方向电流,形成面电流辐射;同时,金属块与上层辐射口形成上下左右四个缝隙,其中,平行于Y轴的两个平行纵缝,等效为两个磁流辐射结构,平行纵缝处电场沿X轴方向,相位相同,为天线的主极化;上下两个横缝平行于X轴,横缝处电场为沿Y轴方向的交叉极化电场,因为同一横缝两侧的交叉极化电场相位相反,所以在天线远场可以互相抵消,降低天线的交叉极化水平。
进一步的,金属腔体底面设有耦合缝隙用于电磁波的耦合,耦合缝隙长边平行于Y轴,位于腔体底面的正中间。
进一步的,金属腔体为正方形,四个金属块体以2×2方式均匀分布在腔体内部,每个金属块与正上方辐射口的中心坐标相同,电场在金属块体与辐射口面形成的平行辐射纵缝处形成最大值。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学温州先进制造技术研究院,未经华中科技大学温州先进制造技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110266697.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





