[发明专利]一种基于PMMA/PC的高性能偏光片在审

专利信息
申请号: 202110266692.4 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN113093323A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 竹文坤;何嵘;刁锐敏;罗林;陈涛;李宸;王茜 申请(专利权)人: 西南科技大学
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/04;G02B1/14;G02B1/18;G02B1/11
代理公司: 成都环泰专利代理事务所(特殊普通合伙) 51242 代理人: 李斌;李辉
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 pmma pc 性能 偏光
【权利要求书】:

1.一种基于PMMA/PC的高性能偏光片,其特征在于,该偏光片由基膜和依次堆叠在基膜一侧的保护层、雾度调节层、透光电极层和功能层组成,其中,基膜包括以下原料:PMMA树脂、PC树脂、聚苯乙烯、PVC树脂、1-羟基环己基苯基甲酮、增韧剂、分散剂和流平剂。

2.根据权利要求1所述的一种基于PMMA/PC的高性能偏光片,其特征在于,基膜中各原料的重量份数如下:PMMA树脂100份-120份、PC树脂80份-100份、聚苯乙烯5份-10份、PVC树脂10份-20份、1-羟基环己基苯基甲酮1份-1.2份、、增韧剂0.5份-0.8份、分散剂0.1份-0.3份和流平剂0.1份-0.3份。

3.根据权利要求2所述的一种基于PMMA/PC的高性能偏光片,其特征在于,基膜中各原料的重量份数如下:PMMA树脂100份、PC树脂80份、聚苯乙烯5份、PVC树脂10份、1-羟基环己基苯基甲酮1份、增韧剂0.5份、分散剂0.1份和流平剂0.1份。

4.根据权利要求2所述的一种基于PMMA/PC的高性能偏光片,其特征在于,基膜中各原料的重量份数如下:PMMA树脂120份、PC树脂100份、聚苯乙烯10份、PVC树脂20份、1-羟基环己基苯基甲酮1.2份、增韧剂0.8份、分散剂0.3份和流平剂0.3份。

5.根据权利要求2所述的一种基于PMMA/PC的高性能偏光片,其特征在于,基膜中各原料的重量份数如下:PMMA树脂110份、PC树脂90份、聚苯乙烯8份、PVC树脂15份、1-羟基环己基苯基甲酮1.2份、增韧剂0.6份、分散剂0.2份和流平剂0.2份。

6.根据权利要求1或2所述的一种基于PMMA/PC的高性能偏光片,其特征在于,所述保护层为三醋酸纤维素酯。

7.根据权利要求1或2所述的一种基于PMMA/PC的高性能偏光片,其特征在于,所述雾度调节层为聚合物分散液晶膜。

8.根据权利要求1或2所述的一种基于PMMA/PC的高性能偏光片,其特征在于,所述功能层为防指纹功能层、低反射功能层、防炫目功能层和防污染功能层中的一种或几种。

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