[发明专利]一种平滑微透镜结构表面的制备方法

权利要求书

1.一种平滑微透镜结构表面的制备方法，应用于平滑微透镜结构表面的制备系统，其特征在于，

所述制备系统包括：曝光光源，用于提供曝光光线，沿所述曝光光线照射方向顺次设置有匀光准直元件、DMD芯片、投影物镜以及三维精密平台，其中，所述匀光准直元件用于将曝光光线处理为均匀光束；所述DMD芯片用于将所述均匀光束反射至投影物镜；所述投影物镜用于将所述均匀光束聚焦至三维精密平台的精准曝光位置，以在工件表面生成曝光图形；其中，还包括连接至所述投影物镜的机械振动辅助机构，所述机械振动辅助机构驱动所述投影物镜产生正弦振动或余弦振动；

其中，所述制备方法包括：

开启曝光光源，产生曝光光线，匀光准直元件用于将曝光光线处理为均匀光束，投影物镜将所述均匀光束聚焦至三维精密平台的精准曝光位置，以在工件表面生成曝光图形；

开启机械振动辅助机构，驱动所述投影物镜产生正弦振动或余弦振动，以模糊DMD像素间隙，消除曝光图形的像素量化误差；

使用显影液对微透镜结构图形进行显影；

其中，所述机械振动辅助机构包括驱动杆、单向振动发生器以及正弦/余弦函数发生器，所述正弦/余弦函数发生器连接至所述单向振动发生器，所述驱动杆的一端连接至所述单向振动发生器的输出端，另一端连接至所述投影物镜；

其中，使机械振动辅助机构的振动方向在曝光图形坐标系的对角线上，以同时模糊X、Y两个方向的DMD像素间隙。

2.根据权利要求1所述的平滑微透镜结构表面的制备方法，其特征在于，通过光学显微镜测量微透镜结构的中心偏移量来表征相应的振动幅度，进而获得振动频率与振动幅度的量化关系。

3.根据权利要求1所述的平滑微透镜结构表面的制备方法，其特征在于，基于DMD像素离散间隙大小来调节正弦/余弦函数发生器的频率幅值参数。

4.根据权利要求1所述的平滑微透镜结构表面的制备方法，其特征在于，所述DMD芯片的单个微镜尺寸为10.8微米或7.6微米。