[发明专利]柔性透明导电膜及其制备方法和应用在审
申请号: | 202110265315.9 | 申请日: | 2021-03-11 |
公开(公告)号: | CN113140353A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 刘伟峰;臧美秀;邢爱;牛娟妮;程媛;刘贤豪;侯丽新;王亚丽 | 申请(专利权)人: | 中国乐凯集团有限公司 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;G02F1/155 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 周慧云 |
地址: | 071054 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柔性 透明 导电 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种柔性透明导电膜,其特征在于,包括:依次叠层设置的透明基膜、第一透明电介质层、合金层、第二透明电介质层和阻挡层。
2.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜,其特征在于,所述阻挡层的厚度为1-100nm,优选10-30nm。
3.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜,其特征在于,所述阻挡层的材质选自Al、Si、Zr、Ti、Hf、Ta、In、Sn和Zn的氧化物中的至少之一。
4.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜,其特征在于,所述第一透明电介质层的厚度为5-100nm,优选10-60nm;
任选地,所述第一透明电介质层的材质选自氧化铟锡、五氧化二铌、二氧化钛、氧化铋、三氧化钨、氧化镍、氧化锌、氧化镓锌、氧化铟锌、二氧化硅、二氧化铪、氧化锆、铝掺杂氧化锌、氧化铝、氧化铟、二氧化锡、硫化锌、氮化硅和氟化镁中的至少之一。
5.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜,其特征在于,所述第二透明电介质层的厚度为5-100nm,优选10-60nm;
任选地,所述第二透明电介质层的材质选自氧化铟锡、五氧化二铌、二氧化钛、氧化铋、三氧化钨、氧化镍、氧化锌、氧化镓锌、氧化铟锌、二氧化硅、二氧化铪、氧化锆、铝掺杂氧化锌、氧化铝、氧化铟、二氧化锡、硫化锌、氮化硅和氟化镁中的至少之一。
6.根据权利要求1-5任一项所述的柔性透明导电膜,其特征在于,所述合金层的厚度为0.1-30nm,优选5-20nm;
任选地,所述合金层的材质选自银与金、铝、铜、钯、钛、镍、铬、钽和锗中的至少一种金属的合金,且所述合金层中Ag的重量比例不小于80%。
7.根据权利要求1-5任一项所述的柔性透明导电膜,其特征在于,所述透明基膜的厚度为5-500μm,优选20-300μm;
任选地,所述透明基膜的材质选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯和聚苯乙烯中的至少之一,优选聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚酰亚胺。
8.一种制备权利要求1-7任一项所述的柔性透明导电膜的方法,其特征在于,包括:
(1)在透明基膜上制备第一透明电介质层;
(2)在所述第一透明电介质层上制备合金层;
(3)在所述合金层上制备第二透明电介质层;
(4)在所述第二透明电介质层制备阻挡层。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,在步骤(1)中,采用物理气相沉积法在所述透明基膜上制备所述第一透明电介质层;
任选地,在步骤(2)中,采用物理气相沉积法在所述第一透明电介质层上制备所述合金层;
任选地,在步骤(3)中,采用物理气相沉积法在所述合金层上制备所述第二透明电介质层;
任选地,所述物理气相沉积法为电子束蒸发法、磁控溅射法、脉冲激光沉积法或者脉冲离子束沉积法;
任选地,在步骤(4)中,采用磁控溅射法或等离子增强化学气相沉积法在所述第二透明介质层上制备所述阻挡层。
10.一种柔性电致变色器件,其特征在于,所述柔性电致变色器件是由权利要求1-7任一项所述的柔性透明导电膜或者权利要求8或9所述方法制备的柔性透明导电膜作为电极制备得到的。
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