[发明专利]一种用于OLED掩膜版及坩埚清洗的组合物

说明书

本发明公开了一种用于OLED掩膜版及坩埚清洗的组合物，属于湿电子化学品领域，其所含各组分按质量百分数计为：无机强碱性物质5‑20%、有机碱0.5‑15%、有机助剂0.1‑50%、螯合剂0.1‑10%、PEG‑Gemini型非离子表面活性剂0.01‑10%、余量为水。本发明所得组合物能快速并有效的清洗去除蒸镀工艺中掩膜版及蒸镀设备坩埚上附着的氟化锂电极材料，且易清洗无残留，可有效提高清洗效率。

技术领域

本发明属于湿电子化学品领域，具体涉及一种OLED掩膜版及蒸镀设备坩埚清洗用的组合物，其能快速并有效的清洗去除蒸镀工艺中掩膜版及坩埚上附着的氟化锂电极材料，且易清洗无残留，可有效提高掩膜版及坩埚的清洗效率。

背景技术

平板显示器（FPD）是目前最重要的光电产品之一，目前主流的平板显示器可分为液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）。其中OLED显示器具有自发光、广色域、广视角、响应时间短、发光效率高，而且工作电压低、更轻薄等特点，此外，可制作大尺寸和可翘曲面板，并且制作工艺更为简单，是业界公认的可能替代LCD的新一代显示器。

目前比较成熟的OLED显示器制造工艺是OLED蒸镀技术，其产品已经广泛应用于智能手机、智能穿戴、VR等领域。蒸镀技术需要精密的蒸镀设备，以及用于蒸镀的精细金属掩膜版（FMM）。FMM决定了OLED显示屏幕像素高低和尺寸大小，其通常由30-50微米厚的Ni-Co合金刻蚀出图案后绑定到金属掩膜版框架上。坩埚具有纯度高、加热一致性好、优异的热导率和抗热震性等性能，且其化学惰性强，在高温下不易发生化学反应，因此广泛应用于OLED蒸镀设备中。在重复的蒸镀过程中，氟化锂阴极材料会在FMM和坩埚上沉积，造成堵塞与污染，严重影响后续蒸镀的效果。在生产时。坩埚和FMM都需要定期进行清洗，来确保其后续效能。

传统的坩埚和FMM上电极材料的清洗主要采用酸洗，其不仅具有很强的腐蚀性，而且产生的废酸难以处理，污染环境，造成了OLED显示器制备成本的提高。专利CN 11501085A公开了真空蒸镀设备中Mask的清洗方法，其是以硝酸溶液为电解液，以待清洗Mask作为阳极，通过与电源负极连接使Mask表面的金属膜溶解于硝酸电解液而达到清洗效果，但其仍存在酸性强、腐蚀性强、产生的废酸污染环境、处理成本高等问题。

发明内容

为了克服现有技术存在的问题，本发明提供了一种用于OLED掩膜版及坩埚清洗的组合物，该组合物能快速并有效清洗去除蒸镀工艺中掩膜版及蒸镀设备坩埚上附着的氟化锂电极材料，且易清洗不残留，可有效提高清洗效率。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种用于OLED掩膜版及坩埚清洗的组合物，按质量百分数之和为100%计，该组合物中各组分及其含量为：无机强碱性物质5-20%，有机碱0.5-15%，有机助剂0.1-50%，螯合剂0.1-10%，PEG-Gemini型非离子表面活性剂0.01-10%，余量为水。

所述PEG-Gemini型非离子表面活性剂的化学结构式如下：

，其中，m、n为1-13之间的整数（优选地，m为5-13之间的整数，n为2-6之间的整数），R独立选自氢原子、卤素原子、饱和烷基、取代烷基、芳基、取代芳基、酯基、酰基、氰基、硝基、烷氧基中的任意一种。其制备步骤如下：

1）将不饱和酸、二元醇和对甲苯磺酸按摩尔比1:1.2:1混合，在以甲苯为溶剂的条件下加热回流反应3h后，将体系蒸馏至恒重，得产物A；

其中，所述不饱和酸的结构式为：，所述二元醇的结构式为：，所得产物A的结构式为：，m、n为1-13之间的整数；

2）按摩尔比1:1.2在步骤1）所得产物A中滴加间氯过氧苯甲酸，然后将体系温度维持在5-15℃，反应72h，反应结束后，体系经过重结晶或柱色谱进行纯化，得产物B，其结构式为：；