[发明专利]一种多结构体化学机械抛光垫、制造方法及其应用

权利要求书

1.一种多结构体化学机械抛光垫，所述抛光垫包括：

（1）主结构体；

（2）表面改性的次级结构体；

（3）保护结构体；

（4）将主结构体与表面改性的次级结构体粘接在一起的上连接体；

（5）将表面改性的次级结构体与保护结构体粘接在一起的下连接体；

其中，所述的表面改性的次级结构体与上、下连接体之间的粘接剥离强度不低于30N/25 mm；

所述的次级结构体选自无纺布材料浸渍聚氨酯而获得的毛毡、通过物理及化学发泡而得到的软质聚氨酯发泡体、聚氯乙烯发泡体中的任一种；

所述表面改性所使用的表面处理剂选自聚氨酯类、聚丙稀酸类、聚氨酯/丙烯酸化学共混类中的任一种。

2.根据权利要求1所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述的表面改性的次级结构体与上、下连接体之间的粘接剥离强度为35-50 N/25 mm。

3.根据权利要求2所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述表面改性的次级结构体的平均厚度为0.6-5 mm，断裂伸长率70-150%，拉伸强度60-100 MPa，压缩率0.5-30%，压缩恢复率30-100%。

4.根据权利要求1-3任一项所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述主结构体选自聚氨酯、聚脲酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚酰胺、聚醚醚酮、聚苯硫醚、聚氯乙烯或聚苯乙烯中的任一材质制成的薄片。

5.根据权利要求4所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述主结构体为具有空腔结构的聚氨酯主结构体。

6.根据权利要求5所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述主结构体的密度不小于0.5 g/cm³，Shore D硬度不小于30，拉伸强度不小于50 MPa，压缩率为1-10%。

7.根据权利要求5所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述具有空腔结构的聚氨酯主结构体由至少以下三种组分混合固化而成：未反应的异氰酸酯(NCO)浓度不少于5%的异氰酸酯多元醇类预聚体、空心微球、多元醇或多元胺单独或复配固化剂。

8.根据权利要求7所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述未反应的异氰酸酯(NCO)浓度不少于5%的异氰酸酯多元醇类预聚体由异氰酸酯与聚合物多元醇反应而成。

9.根据权利要求1-3任一项所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述的次级结构体为无纺布材料浸渍聚氨酯而获得的毛毡，其平均厚度为0.5-4 mm，断裂伸长率80-100%，拉伸强度40-60 MPa，压缩率0.5-20%，压缩恢复率30-80%。

10.根据权利要求9所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述浸渍的聚氨酯材料主要由异氰酸酯单体、聚合物多元醇、小分子扩链剂组分构成。

11.根据权利要求9所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述的表面改性的次级结构体为无纺布材料浸渍聚氨酯而获得的毛毡并经表面改性处理而成。

12.根据权利要求11所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述的表面改性的次级结构体为使用表面处理剂进行次级结构体表面涂布改性。

13.根据权利要求1所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述表面改性所使用的表面处理剂为聚氨酯类表面处理剂。

14.根据权利要求13所述的多结构体化学机械抛光垫，其特征在于，所述聚氨酯类表面处理剂的密度为0.5-2 g/cm³，成膜温度为20-40 ℃，使用时的固含量为20-50%，粘度为1000-10000 mPa•S。