[发明专利]一种基于TSV垂直开关的压控振荡器有效

专利信息
申请号: 202110254843.4 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN113162549B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 王凤娟;文炳成;余宁梅;杨媛;朱樟明;尹湘坤 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: H03B5/12 分类号: H03B5/12;H01L27/06
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 罗笛
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 tsv 垂直 开关 压控振荡器
【说明书】:

发明公开了一种基于TSV垂直开关的压控振荡器,包括电源VDD,电源VDD通过导线连接有惠斯通电桥电感器M1和惠斯通电桥电感器M2的输入端,M1的输出端连接有变容器C1的输出端、MOS4的栅极、MOS3的漏极,M2的输出端连接有变容器C2的输出端、MOS3的栅极、MOS4的漏极,C1和C2的输入端连接有电容控制电源Vctr3,MOS3的源极通过导线与MOS4的源极、MOS5的漏极相连,MOS5的栅极通过导线电连接有偏置电源Vb,MOS5的源极接地。本发明通过TSV实现更短的互连线以降低功耗与延迟,通过TSV垂直开关的导通或关断以调节电感电路的电感值,配合变容器实现压控振荡器的频率调节。

技术领域

本发明属于三维集成电路技术领域,涉及一种基于TSV垂直开关的压控振荡器。

背景技术

随着微电子技术的发展,微电子器件的尺寸按照摩尔定律持续减小,集成电路的集成度也逐渐增大,电子产品性能得到空前提高。但是随着尺寸减小到深亚微米甚至纳米量级后,晶体管的特征尺寸逐渐达到物理极限,量子效应和短沟道效应越来越严重,集成电路的设计、性能和可靠性都受到严重影响。作为射频系统中的核心模块之一的压控振荡器(VCO),直接影响着射频系统的性能、可靠性、稳定性和成本。如何提高其性能成为了设计压控振荡器的主要问题。由于传统设计中的缩小器件尺寸、提高二维芯片集成度等方法,在器件特征尺寸缩小到深亚微米甚至纳米量级后,带来的量子效应及短沟道效应越来越严重。使得电路的性能和可靠性都受到了严重影响,因此有必要寻找新的设计思路解决以上问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种基于TSV垂直开关的压控振荡器,通过TSV实现更短的互连线以降低功耗与延迟,通过TSV垂直开关的导通或关断以调节电感电路的电感值,配合变容器实现压控振荡器的频率调节。

本发明所采用的技术方案是,一种基于TSV垂直开关的压控振荡器,包括电源VDD,电源VDD通过导线连接有基于TSV的惠斯通电桥电感器M1和基于TSV的惠斯通电桥电感器M2的输入端,基于TSV的惠斯通电桥电感器M1的输出端通过导线连接有变容器C1的输出端、TSV垂直开关MOS4的栅极、TSV垂直开关MOS3的漏极,基于TSV的惠斯通电桥电感器M2的输出端通过导线连接有变容器C2的输出端、TSV垂直开关MOS3的栅极、TSV垂直开关MOS4的漏极,变容器C1和变容器C2的输入端共同通过导线连接有电容控制电源Vctr3,TSV垂直开关MOS3的源极通过导线与TSV垂直开关MOS4的源极、TSV垂直开关MOS5的漏极相连,TSV垂直开关MOS5的栅极通过导线连接有偏置电源Vb,TSV垂直开关MOS5的源极接地。

本发明的特征还在于,

TSV垂直开关MOS3、TSV垂直开关MOS4以及TSV垂直开关MOS5结构相同,均包括P型的硅衬底,硅衬底中间开设有通孔,通孔内从内向外依次设置有金属柱和介质层,金属柱一端穿过通过漏出硅衬底表面设置有端子A,端子A作为TSV垂直开关的栅极,硅衬底内位于通孔两端靠近介质层的一侧均设置有n型参杂区,两个n型参杂区端面上设置有伸出硅衬底的金属层,两个金属层上分别设置有端子B1、B2,端子B1、B2分别作为TSV垂直开关的源极与漏极。

硅衬底上下端面还设置有二氧化硅层。

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