[发明专利]抗反射复合膜及其制备方法

说明书

本申请一种抗反射复合膜，所述抗反射复合膜包括基体、与基体体相对层叠设置的保护膜层，以及设置在所述基体和所述保护膜层之间的多层抗反射复合膜层，其中，所述多层抗反射复合膜包括交替设置的第一抗反射层和第二抗反射层，且，所述第一抗反射层与所述保护膜层层叠设置。该多层复合膜层具有优异的抗反射的效果，能够达到平均反射率小于0.2％，透过率大于95.5％，且具有优异的抗冲击性能，耐磨性、耐热性和硬度均较佳，保证该产品能够应用在高端显示产品和军工航天领域。

技术领域

本申请属于材料技术领域，尤其涉及一种抗反射复合膜及其制备方法。

背景技术

物体反射的辐射能量占总辐射能量的百分比，称为反射率。不同物体的反射率也不同，这主要取决于物体本身的性质(表面状况)，以及入射电磁波的波长和入射角度，反射率的大小范围总是小于等于1，利用反射率可以判断物体的性质。

抗反射膜(AR膜，anti reflection膜)是指在光学元件中，能起到增透减反作用的一种膜层。从最开始的表镜，逐步发展到手机屏幕、车载仪表屏乃至笔记本电脑等诸多领域，AR膜在当今3C消费电子市场中的份额越来越大。普通AR膜的镀膜材料主要选择Ti₃O₅，Nb₂O₅，由于Ti₃O₅和Nb₂O₅材料散射较大、吸收率较高，导致用Ti₃O₅、Nb₂O₅材料制作的AR膜透过率仅能达到95％，反射率不能小于1％。

然而，对于高端镜头、精细仪表、军工航天等领域要求小于0.5％的反射率，因此，基于市面上提供的AR膜的反射率均无法达到0.5％以下，无法满足要求，导致应用范围小。

发明内容

本申请的目的在于提供一种抗反射复合膜及其制备方法，旨在解决现有技术中AR膜的反射率较高的问题。

为实现上述申请目的，本申请采用的技术方案如下：

第一方面，本申请提供一种抗反射复合膜，所述抗反射复合膜包括基体、与基体相对层叠设置的保护膜层，以及设置在所述基体和所述保护膜层之间的多层抗反射复合膜层，其中，所述多层抗反射复合膜包括交替设置的第一抗反射层和第二抗反射层，且，所述第一抗反射层与所述保护膜层层叠设置。

第二方面，本申请提供一种抗反射复合膜的制备方法，包括如下步骤：

提供基体，在所述基体表面通过气相沉积的方法交替制备第一抗反射层和第二抗反射层，得到多层抗反射复合膜；

在所述多层抗反射复合膜表面制备保护膜层，得到抗反射复合膜。

本申请第一方面提供的一种抗反射复合膜，该抗反射复合膜采用两种材料层进行交替设置，通过交替设置散射小，吸收率低的第一抗反射层和第二抗反射层形成多层抗反射复合膜层，该多层复合膜层具有优异的抗反射的效果，能够达到平均反射率小于0.2％，透过率大于95.5％，同时由于设置了多层复合膜层，且还设置了保护层，使得到的抗反射复合膜在具有较大的透过率的同时，具有优异的抗冲击性能，耐磨性、耐热性和硬度均较佳，保证该产品能够应用在高端显示产品和军工航天领域。

本申请第二方面提供的一种抗反射复合膜的制备方法，该制备方法采用气相沉积的方法，在基体表面交替制备第一抗反射层和第二抗反射层，制备方式简单，快速高效。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的抗反射复合膜的结构图。