[发明专利]一种基于超透镜阵列的激光并行直写装置及方法

权利要求书

1.一种基于超透镜阵列的激光并行直写装置，其特征在于，包括，

移动平台(9)，用于放置光栅基片；

激光直写光路组件，其中，

所述激光直写光路组件包括蓝光激光光源(1)、透镜(2)、小孔(3)、透镜(4)、超透镜阵列(6)和显微镜(7)，蓝光激光光源(1)输出的光束依次经过透镜(2)、小孔(3)、透镜(4)准直扩束，再入射到超透镜阵列(6)上，最后由显微镜(7)聚焦于移动平台上待刻写的光栅基片表面。

2.根据权利要求1所述的激光并行直写装置，其特征在于，所述超透镜阵列为超临界透镜阵列。

3.根据权利要求2所述的激光并行直写装置，其特征在于，所述超临界透镜阵列为平面衍射透镜阵列。

4.根据权利要求1所述的激光并行直写装置，其特征在于，所述超透镜阵列(6)放置于转台(5)上。

5.根据权利要求4所述的激光并行直写装置，其特征在于，还包括控制系统，所述控制系统连接并控制蓝光激光光源(1)、转台(5)以及移动平台(9)。

6.根据权利要求5所述的激光并行直写装置，其特征在于，所述控制系统具有超透镜旋转控制模块、平台位置调整模块、光源控制模块，所述超透镜旋转控制模块用于控制转台(5)的转动；所述平台位置调整模块用于控制移动平台(9)的精密移动；所述光源控制模块用于控制蓝光激光光源(1)的功率。

7.根据权利要求5所述的激光并行直写装置，其特征在于，控制系统为计算机(10)。

8.根据权利要求6所述的激光并行直写装置，其特征在于，移动平台(9)上设置有样品微调台(8)，所述光栅基片放置于所述样品微调台(8)上。

9.一种基于超透镜阵列的激光并行直写方法，其特征在于，步骤如下：

S1、将待刻写的光栅基片放置于移动平台(9)；

S2、利用蓝光激光光源发射出光束，光束依次经过透镜(2)、小孔(3)、透镜(4)准直扩束，再入射到超透镜阵列(6)上，产生多路光点；

S3、多路光点通过显微镜(7)聚焦于待刻写的光栅基片表面，最终在光栅基片表面形成掩模图形。

10.根据权利要求9所述的激光并行直写方法，其特征在于，在步骤S2之前，将超透镜阵列(6)放置于转台(5)上；

在激光直写的过程中，通过计算机(10)的超透镜旋转控制模块控制转台(5)的转动，通过平台位置调整模块控制移动平台(9)的精密移动，通过光源控制模块控制蓝光激光光源(1)的功率。