[发明专利]一种温度诱导空穴掺杂剂在低浓度下深度掺杂的方法有效
申请号: | 202110253052.X | 申请日: | 2021-03-09 |
公开(公告)号: | CN112635680B | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 韩飞;王玲玲;范敏 | 申请(专利权)人: | 江西省科学院能源研究所 |
主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/44;H01L51/46;H01L51/48 |
代理公司: | 南昌丰择知识产权代理事务所(普通合伙) 36137 | 代理人: | 吴称生 |
地址: | 330096 江西省南*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 温度 诱导 空穴 掺杂 浓度 深度 方法 | ||
1.一种温度诱导空穴掺杂剂在低浓度下深度掺杂的方法,制备从下到上依次为FTO导电玻璃、电子传输层、钙钛矿吸光层、空穴传输层、Au的n-i-p型钙钛矿太阳能电池结构;其特征在于,所述空穴传输层制备过程为:选用TBAPF6作为空穴掺杂剂,将空穴传输层材料和TBAPF6共同溶于二氯甲烷得到空穴传输层材料溶液,空穴传输层材料溶液中TBAPF6的质量浓度为1-4 wt%,并用对应的旋涂参数在钙钛矿薄膜上制备空穴传输层;所得n-i-p型钙钛矿太阳能电池通过低温加热处理,然后自然冷却到室温。
2.根据权利要求1所述的一种温度诱导空穴掺杂剂在低浓度下深度掺杂的方法,其特征在于,低温加热处理温度为50 ℃。
3.根据权利要求2所述的一种温度诱导空穴掺杂剂在低浓度下深度掺杂的方法,其特征在于,低温加热处理时间为60 s。
4.根据权利要求1所述的一种温度诱导空穴掺杂剂在低浓度下深度掺杂的方法,其特征在于,选用的空穴传输层材料为Spiro-OMeTAD。
5.根据权利要求4所述的一种温度诱导空穴掺杂剂在低浓度下深度掺杂的方法,其特征在于,每毫升Spiro-OMeTAD空穴传输层溶液中Spiro-OMeTAD的含量为72.3 mg。
6.根据权利要求1所述的一种温度诱导空穴掺杂剂在低浓度下深度掺杂的方法,其特征在于,空穴传输层材料溶液中TBAPF6的质量浓度为4 wt%。
7.根据权利要求1所述的一种温度诱导空穴掺杂剂在低浓度下深度掺杂的方法,其特征在于,具体步骤如下:
步骤1:将FTO导电玻璃依次采用洗涤剂、去离子水、丙酮和无水乙醇清洗表面,氮气吹干待用;
步骤2:将二(乙酰丙酮基)钛酸二异丙酯加入正丁醇中,搅拌,使其混合均匀,得到混合液A;
步骤3:在步骤1清洗后的FTO导电玻璃表面旋涂混合液A,在150 ℃下烘烤30 min,得到致密TiO2层;
步骤4:将TiO2浆料加入无水乙醇中,搅拌,使其混合均匀,得到混合液B;
步骤5:在步骤3得到的带致密TiO2层的FTO导电玻璃表面旋涂混合液B,在125 ℃下烘烤10 min,并在500 ℃下退火60 min,得到介孔TiO2层;
步骤6:配制1.1 M的FAxMA1-xPbI3溶液,FA+是CH(NH2)2+, MA+是CH3NH3+,使用DMSO和DMF混合溶剂,DMF与DMSO的体积比为3:1,充分搅拌得到钙钛矿前驱液;将上述钙钛矿前驱液铺展于步骤5得到的FTO/TiO2基底表面,然后使用分段旋涂,分段旋涂工艺参数如下,第一段:以1300转/min的转速旋涂10 s;第二段:以5000转/min的转速旋涂30 s,在第二段旋涂时间剩余15 s时滴加200 μL氯苯反溶剂,旋涂结束后,先在50 ℃下加热15 s,再在100℃下加热退火60 min即可得到钙钛矿薄膜;
步骤7:配制空穴传输层材料溶液:选用TBAPF6作为空穴掺杂剂,将空穴传输层材料和TBAPF6共同溶于二氯甲烷得到空穴传输层材料溶液,空穴传输层材料溶液中TBAPF6的质量浓度为1-4 wt%;并用对应的旋涂参数在钙钛矿薄膜上制备空穴传输层;选用的空穴传输层材料为Spiro-OMeTAD;每毫升Spiro-OMeTAD空穴传输层溶液中Spiro-OMeTAD的含量为72.3mg;
步骤8:在步骤7得到的空穴传输层表面蒸镀60 nm的Au作为对电极;
步骤9:将所得钙钛矿太阳能电池器件在50 ℃下低温加热处理60 s,然后自然冷却到室温。
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