[发明专利]一种可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110252252.3 申请日: 2021-03-08
公开(公告)号: CN113054531B 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 肖垚;王俊;刘恒;闵大勇 申请(专利权)人: 苏州长光华芯光电技术股份有限公司;苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/042;H01S5/12;H01S5/062;H01S5/068
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 薛异荣
地址: 215000 江苏省苏州市高新区昆仑山路189号*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 调谐 垂直 发射 激光器 及其 制备 方法
【说明书】:

一种可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法,其中,可调谐垂直腔面发射激光器包括:衬底层;位于所述衬底层上的增益结构;位于所述增益结构背向所述衬底层一侧的光栅层,所述光栅层包括若干栅本体和相邻栅本体之间的光栅缝,所述栅本体的材料为电光材料;位于所述增益结构背向所述衬底层一侧的第一电极层,所述第一电极层适于对所述栅本体加电调制。所述可调谐垂直腔面发射激光器稳定性和可靠性提高。

技术领域

发明涉及半导体领域,具体涉及一种可调谐垂直腔面发射激光器及其制备方法。

背景技术

垂直腔面发射激光器(Vertica lCativy Surface Emitting Laser)因为体积小、具有圆对称光斑、调制速度快等优点引起人们的广泛关注,目前垂直腔面发射激光器在通信和3D传感领域都得到了广泛的应用。

而根据应用场景需求,需要对垂直腔面发射激光器的发射激光波长、输出耦合镜反射率等进行调谐。

然而,现有的垂直腔面发射激光器的稳定性和可靠性较差。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中垂直腔面发射激光器的稳定性和可靠性较差的问题。

为了解决上述技术问题,本发明提供一种可调谐垂直腔面发射激光器,包括:衬底层;位于所述衬底层上的增益结构;位于所述增益结构背向所述衬底层一侧的光栅层,所述光栅层包括若干栅本体和相邻栅本体之间的光栅缝,所述栅本体的材料为电光材料;位于所述增益结构背向所述衬底层一侧的第一电极层,所述第一电极层适于对所述栅本体加电调制。

可选的,所述第一电极层包围所述光栅层;所述第一电极层包括:相对设置且间隔的第一半环导电区和第二半环导电区;所述第一半环导电区上施加的电压和第二半环导电区上施加的电压不同;所述可调谐垂直腔面发射激光器还包括:第一绝缘层,所述第一绝缘层位于所述第一半环导电区的一端和第二半环导电区的一端之间、以及第一半环导电区的另一端和第二半环导电区的另一端之间。

可选的,还包括:环绕所述第一电极层的外侧且与所述第一电极层间隔的第二电极层,所述第二电极层适于为所述增益结构提供纵向电流。

可选的,所述第一电极层和所述第二电极层之间为空隙;或者,所述可调谐垂直腔面发射激光器还包括:位于所述第一电极层和所述第二电极层之间的第二绝缘层。

可选的,第一半环导电区的中心指向第二半环导电区的中心的方向平行于所述光栅缝的延伸方向。

可选的,还包括:第三绝缘层,所述第三绝缘层位于第一电极层的底部表面。

可选的,还包括:位于所述增益结构和所述衬底层之间的底布拉格反射镜。

可选的,还包括:位于所述增益结构背向所述衬底层一侧的电流限制层;所述光栅层和第一电极层位于所述电流限制层背向所述衬底层的一侧。

可选的,还包括:位于所述电流限制层背向所述增益结构一侧的顶布拉格反射镜;所述光栅层和第一电极层位于所述顶布拉格反射镜背向所述衬底层的一侧。

可选的,还包括:位于所述顶布拉格反射镜背向所述衬底层一侧的抗反射层;所述光栅层和第一电极层位于所述抗反射层背向所述衬底层的一侧。

可选的,所述栅本体的材料包括铌酸锂晶体或铌酸钾晶体。

可选的,所述栅本体的光学厚度为所述可调谐垂直腔面发射激光器发射的激光的四分之一波长的整数倍。

本发明还提供一种可调谐垂直腔面发射激光器的制备方法,包括:提供衬底层;在所述衬底层上形成增益结构;在所述增益结构背向所述衬底层一侧形成光栅层,所述光栅层包括若干栅本体和相邻栅本体之间的光栅缝,所述栅本体的材料为电光材料;在所述增益结构背向所述衬底层的一侧形成第一电极层,所述第一电极层适于对所述栅本体加电调制。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州长光华芯光电技术股份有限公司;苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司,未经苏州长光华芯光电技术股份有限公司;苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110252252.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top