[发明专利]一种渲染方法、装置、电子设备和存储介质

说明书

本发明实施例公开了一种渲染方法、装置、电子设备和存储介质；本发明实施例一种渲染方法，包括：获取模型、第一光源、第二光源和模型的直接光光照参数，第二光源的光照方向与第一光源的光照方向一致；采用第二光源对模型进行自阴影渲染，得到模型的自阴影贴图；对自阴影贴图中每个像素进行采样，得到模型中的每个像素的阴影系数；根据每个像素的阴影系数和直接光光照参数，确定模型中的每个像素的直接光渲染参数；根据模型中的每个像素的直接光渲染参数，采用第一光源对模型中的每个像素进行直接光渲染，得到模型的直接光光影。本发明实施例渲染后的模型表现的光影特性更加具有真实感。

技术领域

本发明涉及图形处理领域，具体涉及一种渲染方法、装置、电子设备和存储介质。

背景技术

受技术条件的限制，早期对图形上色多采用平涂的方式，先用线稿画出图形的上色区域，再在线稿确定的上色区域内涂上设定的颜色，例如二次元风格图形中多采用的赛璐璐式的平涂上色。

随着科学技术的发展，图形实现了数字化，图形从二维也演变成了三维，图形渲染科学也随之应运而生。但目前的渲染方式其实与早期的平涂无异，不仅会损失原始模型的拓扑信息，而且这种渲染方式在对模型进行渲染过程中，渲染出的画面中的光影失真较为严重，导致模型的材质难以分辨。

发明内容

本发明实施例提供一种渲染方法、装置、电子设备和存储介质，渲染后的模型表现的光影特性更加具有真实性，易于识别模型中的材质。

本发明实施例提供一种渲染方法，包括：

获取模型、直接光光源和所述模型的直接光光照参数，所述直接光光源包括第一光源和第二光源，所述第二光源的光照方向与所述第一光源的光照方向一致；

采用所述第二光源对所述模型进行自阴影渲染，得到所述模型的自阴影贴图；

对所述自阴影贴图中每个像素进行采样，得到所述模型中的每个像素的阴影系数；

根据所述每个像素的阴影系数和所述直接光光照参数，确定所述模型中的每个像素的直接光渲染参数；

根据所述模型中的每个像素的直接光渲染参数，采用所述第一光源对所述模型中的每个像素进行直接光渲染，得到所述模型的直接光光影。

本发明实施例还提供一种渲染装置，包括：

第一获取单元，用于获取模型、直接光光源和所述模型的直接光光照参数，所述直接光光源包括第一光源和第二光源，所述第二光源的光照方向与所述第一光源的光照方向一致；

第一渲染单元，采用所述第二光源对所述模型进行自阴影渲染，得到所述模型的自阴影贴图；

第一采样单元，用于对所述自阴影贴图中每个像素进行采样，得到所述模型中的每个像素的阴影系数；

第一确定单元，用于根据所述每个像素的阴影系数和所述直接光光照参数，确定所述模型中的每个像素的直接光渲染参数；

第二渲染单元，用于根据所述模型中的每个像素的直接光渲染参数，采用所述第一光源对所述模型中的每个像素进行直接光渲染，得到所述模型的直接光光影。

在一些实施例中，所述直接光光照参数值至少包括直接光漫反射参数和直接光高光参数；

所述第二渲染单元，还用于：

根据所述每个像素的阴影系数、所述直接光漫反射参数和所述直接光高光参数，确定所述模型中的每个像素的直接光渲染参数。

在一些实施例中，所述第二渲染单元，还用于：

将所述直接光漫反射参数与所述直接光高光参数的之和与所述每个像素的阴影系数分别进行求积，得到所述模型中的每个像素的直接光渲染参数。