[发明专利]一种偏旁定位练字系统及方法

权利要求书

1.一种偏旁定位练字系统，其特征在于，包括架构分解模块、偏旁位置模块、练习轨迹模块以及汉字书写模块，其中：

架构分解模块，用于获取目标汉字的间架结构，并对目标汉字进行结构解析，以得到目标汉字分解结构；

偏旁位置模块，用于根据预设的书写定位格和目标汉字分解结构中的偏旁的间架结构确定偏旁的书写位置；所述偏旁位置模块包括定位格子模块、偏旁模型子模块以及位置确定子模块，其中：定位格子模块，用于预设定书写定位格；偏旁模型子模块，用于提取并根据目标汉字分解结构中的偏旁的间架结构建立偏旁书写模型；位置确定子模块，用于根据偏旁书写模型和书写定位格确定偏旁的书写位置；

练习轨迹模块，用于根据偏旁的书写位置和目标汉字分解结构生成目标汉字的书写练习轨迹信息；所述练习轨迹模块包括度量子模块和轨迹生成子模块，其中：度量子模块，用于根据目标汉字分解结构中的偏旁的间架结构和目标汉字分解结构生成目标汉字的书写定位度量信息；轨迹生成子模块，用于根据偏旁的书写位置、目标汉字的书写定位度量信息和目标汉字分解结构生成目标汉字的书写练习轨迹信息；

汉字书写模块，用于录入标准汉字书写规则，并根据目标汉字的书写练习轨迹信息和标准汉字书写规则生成完整目标汉字书写信息。

2.根据权利要求1所述的一种偏旁定位练字系统，其特征在于，所述度量子模块包括规则单元和定位度量单元，其中：

规则单元，用于根据目标汉字分解结构中的偏旁的间架结构中的笔画长度、笔画高度以及笔画间距生成目标汉字书写规则；

定位度量单元，用于根据目标汉字书写规则和目标汉字分解结构生成目标汉字的书写定位度量信息。

3.根据权利要求2所述的一种偏旁定位练字系统，其特征在于，所述书写定位度量信息包括起笔点、角度、笔画长度、笔画高度、笔画间距、定位线以及笔画对称关系。

4.一种偏旁定位练字方法，其特征在于，包括以下步骤：

获取目标汉字的间架结构，并对目标汉字进行结构解析，以得到目标汉字分解结构；

根据预设的书写定位格和目标汉字分解结构中的偏旁的间架结构确定偏旁的书写位置，包括：预设定书写定位格；提取并根据目标汉字分解结构中的偏旁的间架结构建立偏旁书写模型；根据偏旁书写模型和书写定位格确定偏旁的书写位置；

根据偏旁的书写位置和目标汉字分解结构生成目标汉字的书写练习轨迹信息，包括：根据目标汉字分解结构中的偏旁的间架结构和目标汉字分解结构生成目标汉字的书写定位度量信息；根据偏旁的书写位置、目标汉字的书写定位度量信息和目标汉字分解结构生成目标汉字的书写练习轨迹信息；

录入标准汉字书写规则，并根据目标汉字的书写练习轨迹信息和标准汉字书写规则生成完整目标汉字书写信息。

5.根据权利要求4所述的一种偏旁定位练字方法，其特征在于，所述根据目标汉字分解结构中的偏旁的间架结构和目标汉字分解结构生成目标汉字的书写定位度量信息的方法包括以下步骤：

根据目标汉字分解结构中的偏旁的间架结构中的笔画长度、笔画高度以及笔画间距生成目标汉字书写规则；

根据目标汉字书写规则和目标汉字分解结构生成目标汉字的书写定位度量信息。

6.根据权利要求5所述的一种偏旁定位练字方法，其特征在于，所述书写定位度量信息包括起笔点、角度、笔画长度、笔画高度、笔画间距、定位线以及笔画对称关系。