[发明专利]一种用于整流二极管生产线的酸洗装置在审
申请号: | 202110243304.0 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN113035753A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 卢博朗;卢博宇 | 申请(专利权)人: | 浙江柳晶整流器有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B3/10;B08B3/08 |
代理公司: | 温州知西思悟专利代理事务所(普通合伙) 33379 | 代理人: | 姚丙乾 |
地址: | 325600 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 整流二极管 生产线 酸洗 装置 | ||
1.一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,包括酸洗箱,所述酸洗箱上形成注液口以及排液口,所述酸洗箱内形成酸洗轨道,所述酸洗轨道的两端于酸洗箱上形成注料口以及出料口,所述注料口与所述出料口之间存在高度差,所述酸洗轨道上形成若干渗液口,所述酸洗箱内形成若干气泡发生器。
2.根据权利要求1所述的一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,所述酸洗箱的底部设置有安装平台,所述安装平台与所述酸洗箱之间设置有振动电机,所述安装平台与所述酸洗箱底部之间还设置有连接柱,所述连接柱上套设有减震弹簧。
3.根据权利要求1或2所述的一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,所述酸洗箱还连接有干燥系统。
4.根据权利要求3所述的一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,所述干燥系统包括加热塔A、干燥塔B以及储气塔C,所述加热塔A的一端设置有压缩空气进口,所述加热塔A的另外一端与所述酸洗箱连接,所述干燥塔B的一端与所述酸洗箱连接,所述干燥塔B的另一端与所述储气塔C一端连接,所述储气塔C的另外一端与所述压缩空气进口连接,所述储气塔C与所述压缩空气进口之间设置有压缩机。
5.根据权利要求4所述的一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,所述加热塔A中的设置有加热源,所述加热塔A与所述酸洗箱之间的管道上设置有第一过滤器。
6.根据权利要求5所述的一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,所述干燥塔B内设置有干燥剂,所述干燥塔B与所述储气塔C之间的连接管道设置有第二过滤器以及开启阀门。
7.根据权利要求6所述的一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,所述储气塔C与所述压缩空气进口的管道上设置加热器和压缩机,所述压缩机靠近所述储气塔C设置,所述加热器靠近所述压缩空气进口设置。
8.根据权利要求7所述的一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,所述压缩空气进口处设置有第一阀门和第二阀门,所述第一阀门靠近所述加热塔A设置,所述第二阀门靠近所述加热器设置。
9.根据权利要求8所述的一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,所述压缩机靠近所述储气塔C的一侧设置有压力表以及调压阀。
10.根据权利要求9所述的一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,其特征在于,所述干燥塔还连接有排气管道,所述排气管道上设置有第三阀门以及消音器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造