[发明专利]一种膏状隔离剂及其制备和使用方法

权利要求书

1.一种膏状隔离剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1、将凹凸棒土和蒙脱土放入研磨机研磨后过筛，获得粒径为200～800纳米的第一混合物；

步骤S2、将通过步骤S1获得的第一混合物放入电弧等离子体发生器，在30～50kV的直流电压下等离子处理5～10分钟，获得第二混合物；

步骤S3、将通过步骤S2获得的第二混合物加入去离子水中，搅拌分散后静置沉淀，滤出沉淀物并将沉淀物按上述操作重复清洗3～5次，烘干后获得第三混合物；

步骤S4、将通过步骤S3获得的第三混合物加入稀盐酸溶液中，在70±5℃下，通过超声波乳化分散器超声分散1小时，获得第一分散液；

步骤S5、将氢氧化钠溶液滴加至步骤S4获得的第一分散液中，将其pH值调节为4～5，获得第二分散液；

步骤S6、将硅烷偶联剂加入步骤S5获得的第二分散液中，通过超声波乳化分散器超声分散1～2小时，洗涤、过滤、干燥后获得改性凹凸棒土/蒙脱土混合物；

步骤S7、将阳离子表面活性剂加入去离子水中，搅拌溶解后依次加入通过步骤S6获得的改性凹凸棒土/蒙脱土混合物和增稠剂，在3000转/分的转速下搅拌分散30分钟，搅拌期间加入消泡剂消泡，获得膏状隔离剂；

步骤S6中的所述硅烷偶联剂为乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷和乙烯基三（β-甲氧基乙氧基）硅烷中的至少一种；

步骤S7中的所述阳离子表面活性剂为十八烷基三甲基溴化铵、十八烷基三甲基氯化铵、十六烷基三甲基溴化铵、十六烷基三甲基氯化铵中的至少一种；

步骤S7中的所述增稠剂为海藻酸钠；

步骤S1中所述凹凸棒土与所述蒙脱土按（2～8）：1的质量比混合；

步骤S6中所述硅烷偶联剂按步骤S3中所述第三混合物的2.5～3.5wt%的量添加；

步骤S7中所述改性凹凸棒土/蒙脱土混合物、所述阳离子表面活性剂、所述去离子水和所述增稠剂按100：（16～25）：（500～650）：（3～12）的质量比混合。

2.根据权利要求1所述的一种膏状隔离剂的制备方法，其特征在于，步骤S4中所述稀盐酸溶液的浓度为0.5～1wt%；步骤S5中氢氧化钠溶液的浓度为10～15wt%。

3.根据权利要求1所述的一种膏状隔离剂的制备方法，其特征在于，所述超声波乳化分散器进行超声波分散时，超声功率为200～500W，超声频率为20～25kHz。

4.根据权利要求1所述的一种膏状隔离剂的制备方法，其特征在于，

步骤S3中所述第二混合物与所述去离子水按1：（10～12）的质量比混合；

步骤S4中所述第三混合物与所述稀盐酸溶液按1：（2～3）的质量比混合。

5.一种膏状隔离剂，其特征在于，根据权利要求1～4任意一项所述的膏状隔离剂的制备方法制得。

6.根据权利要求5所述的一种膏状隔离剂的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S100、将膏状隔离剂装入球形的第一容器内，所述第一容器上设有1～5毫米之间的小孔；

步骤S300、将冷却水槽通过可拆卸格栅分隔成水槽上层和水槽下层，水槽下层内设有多个搅拌装置，所述搅拌装置分别设置于水槽下层的底部和侧壁，可分别或同时开启；

步骤S500、将步骤S100中的一个或多个所述第一容器放入步骤S300中冷却水槽的水槽下层，所述第一容器随搅拌装置的搅拌在下层浮动，膏状隔离剂随着第一容器的浮动逐渐从小孔中溶解稀释，并扩散至水槽上层；

步骤S700、将胶片浸入水槽上层，涂覆隔离剂后晾干叠放。

7.根据权利要求5所述的一种膏状隔离剂的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S200、将膏状隔离剂装入一端开口的第二容器中，所述第二容器的开口处设有盖体，所述第二容器的侧壁和所述盖体上分别设有1～5毫米之间的小孔；

步骤S400、将冷却水槽通过可拆卸格栅分隔成水槽上层和水槽下层，水槽下层的底部设有可水平旋转的旋转盘；

步骤S600、将步骤S200中的一个或多个所述第二容器固定在步骤S400中冷却水槽的旋转盘上，随着旋转盘的旋转，膏状隔离剂逐渐从小孔中溶解稀释，并扩散至水槽上层；

步骤S800、将胶片浸入水槽上层，涂覆隔离剂后晾干叠放。