[发明专利]镀制超导带材的图形板、制备方法、设备及使用方法有效

专利信息
申请号: 202110238537.1 申请日: 2021-03-04
公开(公告)号: CN113035445B 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 朱佳敏;陈思侃;吴蔚;赵跃;高中赫;张超;丁逸珺 申请(专利权)人: 上海超导科技股份有限公司
主分类号: H01B12/06 分类号: H01B12/06;H01B13/00
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 李佳俊;郭国中
地址: 201207 上海市浦东新区自由*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 超导 图形 制备 方法 设备 使用方法
【权利要求书】:

1.一种镀制超导带材的图形板,其特征在于,包括:图形板主体,所述图形板主体上设置有预设形状的镂空图案;

其中,所述镂空图案的边缘转角处设置有补偿形状;

所述补偿形状包括:实体形状和镂空形状;

所述实体形状设置于所述镂空图案的边缘转角小于180度的内侧,填充所述镂空图案的边缘转角中小于180度的镂空部分;

所述镂空形状设置于所述镂空图案的边缘转角大于180度的外侧,向外扩大所述镂空图案中的边缘转角大于180度的镂空部分。

2.根据权利要求1所述的镀制超导带材的图形板,其特征在于,所述实体形状与所述图形板主体一体成型。

3.根据权利要求1所述的镀制超导带材的图形板,其特征在于,所述镂空形状与所述镂空图案一体成型。

4.一种权利要求1至3任一项所述的镀制超导带材的图形板的制备方法,其特征在于,包括:

步骤1:根据所需镀制图形绘制第一镂空图案;

步骤2:根据第一镂空图案在第一图形板主体上进行镂空处理,得到第一图形板;

步骤3:采用第一图形板进行镀制超导带材,获取实际镀制图形;

步骤4:将实际镀制图形的轮廓与所需镀制图形的轮廓进行比对,得到实际镀制图形的轮廓中需要向外扩展和/或需要向内缩减的补偿形状;

步骤5:根据补偿形状对第一镂空图案进行补偿,得到第二镂空图案。

5.根据权利要求4所述的所述的镀制超导带材的图形板的制备方法,其特征在于,还包括:

步骤6:将所述第二镂空图案在第二图形板主体上进行镂空处理,得到第二图形板;或者根据第二镂空图案直接在第一图形板上进行补偿处理。

6.一种镀制超导带材的设备,其特征在于,包括权利要求1至3任一项所述的镀制超导带材的图形板。

7.根据权利要求6所述的镀制超导带材的设备,其特征在于,还包括超导源和同质非导电源;

所述超导源和所述同质非导电源设置于所述图形板的一侧,基带设置于所述图形板的另一侧;

所述超导源和所述同质非导电源射出的物质,经过所述图形板在所述基带上镀制对应的超导层和同质非导电层。

8.根据权利要求7所述的镀制超导带材的设备,其特征在于,还包括加热机构,对所述基带进行加热。

9.根据权利要求7所述的镀制超导带材的设备,其特征在于,还包括走带机构,所述基带设置于所述走带机构上,通过所述走带机构驱动所述基带移动。

10.一种镀制超导带材的方法,其特征在于,采用权利要求9所述的镀制超导带材的装置,执行包括:

通过辐照所述超导源和同质非导电源,使所述超导源和所述同质非导电源射出物质,射出的物质经过所述图形板在所述基带上镀制对应的超导层和同质非导电层。

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