[发明专利]粒子束系统、操作粒子束系统的方法以及计算机程序产品

权利要求书

1.一种粒子束系统(1)，包括：

真空腔室(29)，该真空腔室具有腔室壁(31)；

样本台(41)，布置在所述真空腔室(29)中以承载样本(5)，其中所述样本台(41)配置为冷却所述样本至低于-50℃的温度；

粒子束柱(3)，该粒子束柱用于用带电粒子的粒子束(9)照射由所述冷却的样本台(41)承载的所述样本(5)的部分表面；

气体供给管线装置(43，43A，43B，43C)，该气体供给管线装置用于将气体(45)引导至布置在该真空腔室(29)中的该样本(5)的该部分表面；

该气体供给管线装置(43，43A，43B)包括：

-用于引导该气体(45)的气体管线(47，47A，47B)，该气体管线(47，47A，47B)具有布置在该真空腔室(29)中的出口(49)；以及

-热交换器(51)，该热交换器布置在该真空腔室(29)中，用于冷却在该气体管线(47，47A，47B)中引导的该气体(45)；

其中所述气体供给管线装置(43，43C)还包括提供气体的气体源(65)，其中所述气体是反应性的处理气体。

2.一种粒子束系统(1)，包括：

真空腔室(29)，该真空腔室具有腔室壁(31)；

样本台(41)，布置在所述真空腔室(29)中以承载样本(5)，其中所述样本台(41)配置为冷却所述样本至低于-50℃的温度；

粒子束柱(3)，该粒子束柱用于用带电粒子的粒子束(9)照射由所述冷却的样本台(41)承载的所述样本(5)的部分表面；

气体供给管线装置(43，43A，43B，43C)，该气体供给管线装置用于将气体(45)引导至布置在该真空腔室(29)中的该样本(5)的该部分表面；

该气体供给管线装置(43，43A，43B)包括：

-用于引导该气体(45)的气体管线(47，47A，47B)，该气体管线(47，47A，47B)具有布置在该真空腔室(29)中的出口(49)；以及

-热交换器(51)，该热交换器布置在该真空腔室(29)中，用于冷却在该气体管线(47，47A，47B)中引导的该气体(45)；

其中所述气体供给管线装置(43，43C)还包括提供气体的气体源(65)，其中所述气体是提供电荷补偿的气态氮。

3.一种粒子束系统(1)，包括：

真空腔室(29)，该真空腔室具有腔室壁(31)；

样本台(41)，布置在所述真空腔室(29)中以承载样本(5)，其中所述样本台(41)配置为冷却所述样本至低于-50℃的温度；

粒子束柱(3)，该粒子束柱用于用带电粒子的粒子束(9)照射由所述冷却的样本台(41)承载的所述样本(5)的部分表面；

气体供给管线装置(43，43A，43B，43C)，该气体供给管线装置用于将气体(45)引导至布置在该真空腔室(29)中的该样本(5)的该部分表面；

该气体供给管线装置(43，43A，43B)包括：

-用于引导该气体(45)的气体管线(47，47A，47B)，该气体管线(47，47A，47B)具有布置在该真空腔室(29)中的出口(49)；以及

-热交换器(51)，该热交换器布置在该真空腔室(29)中，用于冷却在该气体管线(47，47A，47B)中引导的该气体(45)；

其中所述气体供给管线装置(43，43C)还包括提供气体的气体源(65)，其中所述气体是适于在用所述粒子束(9)活化时将材料沉积在所述样本(5)上的处理气体，或者是适于在用所述粒子束(8)活化时从所述样本(5)去除材料的处理气体。

4.根据权利要求1所述的粒子束系统(1)，

该气体供给管线装置(43，43A，43B)还包括：

-供给管线(53，53A)，该供给管线穿过该腔室壁(31)，用于将冷却介质从布置在该真空腔室(29)外部的冷却介质源(55)引导至该热交换器(51)，

-返回管线(59，59B)，该返回管线穿过该腔室壁(31)，用于将该冷却介质从该热交换器(51)引导至布置在该真空腔室(29)外部的冷却介质槽(61)，

该冷却介质适用于在该热交换器(51)中冷却该气体(45)。