[发明专利]一种真空低温装置的平衡调节结构和调节方法

权利要求书

1.一种真空低温装置的平衡调节结构，其特征在于，所述平衡调节结构包括至少两个调节机构，所述调节机构安装在所述真空低温装置内的实验装置的外侧，其中各所述调节机构包括低导热棒、固定在低导热棒末端的加热器组件以及检测模块，所述检测模块用于检测所述实验装置的倾斜位置，所述加热器组件包括加热器和吸气剂，所述平衡调节结构基于所述检测模块检测到的所述实验装置的倾斜位置，控制所述加热器加热处于相应倾斜位置的所述吸气剂，以使得所述吸气剂放出气体而减轻相应倾斜位置的重量，从而调节所述实验装置的倾斜状态。

2.根据权利要求1所述的真空低温装置的平衡调节结构，其特征在于，所述吸气剂具有临界温度，在临界温度之下，所述吸气剂能够吸收所述真空低温装置内的工作气体以确保真空，在临界温度之上，所述吸气剂能够释放所吸收的所述工作气体以减轻重量，其中所述工作气体的液化温度和所述临界温度均不低于所述实验装置的工作温度。

3.根据权利要求2所述的真空低温装置的平衡调节结构，其特征在于，所述吸气剂为活性炭。

4.根据权利要求2或3所述的真空低温装置的平衡调节结构，其特征在于，所述平衡调节结构还包括包裹在所述加热器组件之外的包裹层，所述包裹层与所述加热器组件之间存在间隙，所述包裹层设有多个开孔以供所述工作气体进出。

5.根据权利要求4所述的真空低温装置的平衡调节结构，其特征在于，所述包裹层由真空辐射反射绝热材料制成。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的真空低温装置的平衡调节结构，其特征在于，所述低导热棒采用聚四氟乙烯或G10制成。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的真空低温装置的平衡调节结构，其特征在于，所述平衡调节结构包括三个所述调节机构，三个所述调节机构之间以相互呈120°的状态均布安装在所述实验装置的外侧。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的真空低温装置的平衡调节结构，其特征在于，所述检测模块为光学式传感器或电容式传感器。

9.一种根据权利要求1至8中任一项所述的真空低温装置的平衡调节结构的调节方法，其特征在于，包括步骤：

S1、所述真空低温装置内的所述实验装置降温到工作温度，从所述真空低温装置的腔体内吸入工作气体，所述平衡调节结构的所述检测模块检测所述实验装置的倾斜位置；和

S2、基于所述检测模块所检测到的所述实验装置的倾斜位置，控制所述加热器加热相应倾斜位置的所述吸气剂，以使得所述吸气剂放出气体而减轻相应倾斜位置的重量，从而调节所述实验装置的倾斜状态。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述吸气剂具有临界温度，所述工作气体的液化温度和所述临界温度均不低于所述实验装置的工作温度，在所述实验装置降温到工作温度时，所述吸气剂能够吸收所述真空低温装置内的所述工作气体以确保真空，在所述吸气剂被加热到所述临界温度之上时，所述吸气剂释放所吸收的所述工作气体以减轻相应倾斜位置的重量，从而调节所述实验装置的倾斜状态。